[發(fā)明專利]一種介質(zhì)濾波器及無線電收發(fā)設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010134457.7 | 申請日: | 2020-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN111211386A | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱琦;周鑫童 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇燦勤科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01P1/20 | 分類號: | H01P1/20 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 孫仿衛(wèi) |
| 地址: | 215600 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 介質(zhì) 濾波器 無線電 收發(fā) 設(shè)備 | ||
1.一種介質(zhì)濾波器,其特征在于,包括至少兩個介質(zhì)諧振器,每個介質(zhì)諧振器包括由陶瓷材料制成的介質(zhì)諧振器本體和位于介質(zhì)諧振器本體上表面的調(diào)試孔,所述調(diào)試孔為盲孔,該盲孔用于調(diào)試其所在的介質(zhì)諧振器的諧振頻率;所有所述介質(zhì)諧振器本體構(gòu)成所述介質(zhì)濾波器本體,所述介質(zhì)濾波器還包括:
至少一個負耦合孔,所述負耦合孔位于介質(zhì)諧振器本體的下表面,并且位于兩個介質(zhì)諧振器本體的連接位置,所述負耦合孔所處的位置與所述兩個介質(zhì)諧振器相接,所述負耦合孔為盲孔,所述負耦合孔的深度小于等于其所處位置相接的兩個介質(zhì)諧振器的調(diào)試孔的深度;
覆蓋所述介質(zhì)濾波器本體表面、所述調(diào)試孔內(nèi)壁表面和所述負耦合孔內(nèi)壁表面的導(dǎo)電層;
在所述介質(zhì)濾波器本體表面,圍繞所述負耦合孔的孔口部設(shè)有隔斷環(huán),所述隔斷環(huán)具有靠近所述負耦合孔孔口部的內(nèi)邊沿、遠離所述負耦合孔孔口部的外邊沿、用于連接所述內(nèi)邊沿和所述外邊沿端部的端部邊沿,所述端部邊沿至少有一對,相鄰的端部邊沿之間形成所述隔斷環(huán)的開口,該開口處覆蓋有所述導(dǎo)電層,所述外邊沿、所述內(nèi)邊沿、所述端部邊沿所圍成的區(qū)域暴露出所述介質(zhì)濾波器的本體,所述負耦合孔和所述隔斷環(huán)用于實現(xiàn)所述兩個介質(zhì)諧振器之間的電容耦合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述負耦合孔的深度小于其所處位置相接的兩個介質(zhì)諧振器的調(diào)試孔的深度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述隔斷環(huán)的弧度大于等于240°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述介質(zhì)諧振器本體的上表面還設(shè)置有輔助負耦合孔,所述輔助負耦合孔的軸心線與所述負耦合孔的軸心線相重合,所述輔助負耦合孔的內(nèi)壁被所述導(dǎo)電層覆蓋。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述端部邊沿至少有兩對,使得所述隔斷環(huán)至少由兩段組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述隔斷環(huán)的所述內(nèi)邊沿與所述負耦合孔開口的邊沿相間隔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述隔斷環(huán)的軸心線與所述負耦合孔的軸心線相重合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于,所述隔斷環(huán)的深度大于等于所述導(dǎo)電層的厚度小于所述導(dǎo)電層厚度的兩倍。
9.一種無線電收發(fā)設(shè)備,其特征在于,包括根據(jù)權(quán)利要求1至8任意一項所述的介質(zhì)濾波器。
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