[發(fā)明專利]可提高色域、PPI的像素排列顯示設(shè)備及蒸鍍方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010133953.0
• 申請日: 2020-03-02
• 公開（公告）號: CN111341944A
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何瑞亭
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 何輝

本申請涉及OLED器件制作技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可提高色域、PPI的像素排列顯示設(shè)備及蒸鍍方法，本申請?jiān)谡翦兓迳弦来卧O(shè)置三角形狀可獨(dú)立控制、發(fā)光的R像素、G像素和B像素；并將緊鄰相貌和顏色相同的像素作為獨(dú)立單元，同一行排列的獨(dú)立單元中，三個(gè)單色的獨(dú)立單元內(nèi)的像素個(gè)數(shù)可相同，每個(gè)獨(dú)立單元子像素個(gè)數(shù)為3N+1或3N+2，N為正整數(shù)的所有像素排列方式以及同一單元由同一FMM開孔的蒸鍍方式蒸鍍成膜；本申請加工且不易變形，有利于避免混色，有利于提高產(chǎn)品良率，蒸鍍對位Margin更大，蒸鍍工藝易進(jìn)行，F(xiàn)MM更換頻率降低導(dǎo)致的產(chǎn)能提高以及降低FMM清洗損耗；可以生產(chǎn)像素密度更高的OLED顯示屏，提高蒸鍍材料的利用效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及OLED器件制作技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可提高色域、PPI的像素排列顯示設(shè)備及蒸鍍方法。

背景技術(shù)

近年來，在各種商品和領(lǐng)域中使用平板顯示器，要求平板顯示器進(jìn)一步大型化、高畫質(zhì)化、低耗電化。在這樣的狀況下，具備利用有機(jī)材料的電場發(fā)光(ElectroLuminescence)的有機(jī)EL組件的有機(jī)EL顯示裝置，作為全固體型且在能夠低電壓驅(qū)動、高速響應(yīng)性、自發(fā)旋光性等方面優(yōu)異的平板顯示器，受到了高度的關(guān)注。

目前OLED器件制作大多采用金屬掩膜板(Fine Metal Mask,FMM)進(jìn)行RGB像素EL膜層蒸鍍，每個(gè)FMM開孔對應(yīng)一個(gè)像素，現(xiàn)有量產(chǎn)技術(shù)FMM設(shè)計(jì)一個(gè)開孔進(jìn)行一個(gè)像素單層膜蒸鍍，如圖1所示。隨著市場對高分辨需求的提高，F(xiàn)MM像素開孔直徑越來越小，這大大增加了FMM制作工藝以及OLED蒸鍍工藝過程控制的難度。當(dāng)分辨率達(dá)到300ppi以上時(shí)，這種排列方式要求精細(xì)金屬掩模板(FMM)的開口及連接橋(連接相鄰開孔的肋骨)均非常細(xì)小，致使不但掩模板(MASK)加工難度非常大，而且MASK對位精度、MASK陰影、MASK受其他因素影響而變形等將嚴(yán)重影響有機(jī)發(fā)光材料蒸鍍形成精細(xì)的彩色化像素圖案。行業(yè)內(nèi)針對該問題，韓國三星等領(lǐng)先企業(yè)雖也積極研究以LITI(激光熱轉(zhuǎn)印)為代表的新技術(shù)以期能夠生產(chǎn)高分辨率的OLED顯示屏，但這些新技術(shù)仍有諸多不足之處，目前還不能用于量產(chǎn)或量產(chǎn)時(shí)良率低下。比如需增加制程工序和額外的制程工藝而導(dǎo)致生產(chǎn)效率較低；需要增加設(shè)備和原材料，甚至需要開發(fā)特別的原材料，導(dǎo)致投資和成本增加等。即便如此，這些新技術(shù)仍難以生產(chǎn)450ppi以上的超高分辨率顯示屏。同時(shí)FMM像素開孔小也會增加連續(xù)蒸鍍過程FMM清洗的頻率，導(dǎo)致產(chǎn)能降低、蒸鍍材料浪費(fèi)以及FMM因清洗次數(shù)增多導(dǎo)致的損耗。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本申請公開了一種可提高色域、PPI的像素排列顯示設(shè)備及蒸鍍方法，在生產(chǎn)分辨率相同的OLED屏?xí)r，本申請開口及連接橋的寬度更大而易于加工且不易變形，不同像素之間距離的增大，有利于避免混色，有利于提高產(chǎn)品良率，蒸鍍對位Margin更大，蒸鍍工藝易進(jìn)行，解決FMM更換頻率降低導(dǎo)致的產(chǎn)能提高以及降低FMM清洗損耗。

本申請通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：

一種可提高色域、PPI的像素排列蒸鍍方法，所述蒸鍍方法包括以下步驟：

S1將蒸鍍基板上緊鄰相貌和顏色相同的像素作為獨(dú)立單元；

S2設(shè)置每個(gè)獨(dú)立單元子像素個(gè)數(shù)為3N+1或3N+2，N為正整數(shù)；

S3在蒸鍍基板上設(shè)置FMM開孔；

S4將S2中設(shè)置后的所有像素排列方式以及同一單元由同一FMM開孔的蒸鍍方式蒸鍍成膜。

更進(jìn)一步的，所述S4中，蒸鍍時(shí)包括蒸鍍區(qū)，所述蒸鍍區(qū)設(shè)有蒸鍍單元、蒸鍍源和蒸鍍掩膜。

更進(jìn)一步的，所述蒸鍍源具備各自放出蒸鍍顆粒的蒸鍍源開口，并通過限制單元設(shè)置所述蒸鍍源開口放出的上述蒸鍍顆粒分別通過的限制開口。

更進(jìn)一步的，所述蒸鍍掩模分別通過限制開口的蒸鍍顆粒到達(dá)的蒸鍍區(qū)域內(nèi)設(shè)置有掩模開口。