[發明專利]來自氧安德盧梭法的HCN中有機腈雜質水平的減少

在審

• 申請號: 202010133857.6
• 申請日: 2013-12-12
• 公開（公告）號: CN111268695A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 斯圖爾特·福賽思;劉愛國;馬丁·J·倫納;布倫特·J·斯塔爾曼
• 申請（專利權）人: 英威達紡織（英國）有限公司
• 主分類號: C01C3/02
• 分類號: C01C3/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 陳平

1.一種在氧安德盧梭法中的通過烷烴混合物與氨和氧在鉑催化劑的存在下的安德盧梭氨氧化的HCN制備的方法，所述方法包括：

使用包含至少約98重量％純度的甲烷的烷烴混合物。

2.權利要求1所述的方法，其中所述HCN產物比由其中使用更低甲烷純度的烷烴混合物的可比較的氨氧化方法獲得的HCN產物含有更少含量的一種或多種有機腈雜質。

3.權利要求1所述的方法，其中所述烷烴混合物中的甲烷純度為至少約99重量％。

4.權利要求1所述的方法，其中所述烷烴混合物中的甲烷純度為至少約99.9重量％。

5.權利要求2所述的方法，其中所述有機腈雜質包含乙腈、丙腈、丙烯腈或其混合物。

6.權利要求1-5中任一項所述的方法，其中與通過其中使用更低甲烷純度的烷烴混合物的方法制備的HCN比較，觀察到所述產物中更少量的HCN聚合物形成。

7.一種在氧安德盧梭法中的通過烷烴混合物與氨和氧在鉑催化劑的存在下的安德盧梭氨氧化的HCN制備的方法，其中改進包括：

包含不大于約2重量％的乙烷、或丙烷、或其烯烴類似物、或其混合物的烷烴源的使用。

8.權利要求7所述的方法，其中所述HCN產物比當含有更高含量的乙烷、丙烷，或其烯烴類似物，或其混合物的烷烴源經歷可比較的氨氧化時獲得的HCN產物含有更少含量的有機腈雜質。

9.權利要求7所述的方法，其中所述烷烴源包含不大于約1重量％的乙烷，或丙烷，或其烯烴類似物，或其混合物。

10.權利要求7所述的方法，其中所述烷烴源包括不大于約0.1重量％的乙烷，或丙烷，或其烯烴類似物，或其混合物。

11.權利要求8所述的方法，其中所述有機腈雜質包含乙腈、丙腈、丙烯腈，或其混合物。

12.權利要求7-11中任一項所述的方法，其中與其中使用更高含量的乙烷，或丙烷，或其烯烴類似物，或其混合物的烷烴源的方法制備的HCN比較，觀察到所述產物中更少量的HCN聚合物形成。

13.一種在氧安德盧梭法中的HCN制備的方法，其中所述產物HCN包含作為雜質的小于2重量％，或小于1重量％，或小于0.1重量％的一種或多種有機腈雜質，所述方法包括：

使氨、氧和烷烴混合物在鉑催化劑的存在下、在適合于進行安德盧梭氨氧化反應的條件下接觸，其中所述烷烴混合物包含小于約2重量％的除甲烷之外的烷烴或它們的類似烯烴。

14.權利要求13所述的方法，其中所述烷烴混合物包含小于約1重量％的除甲烷之外的烷烴或它們的類似烯烴。

15.權利要求13所述的方法，其中所述烷烴混合物包含小于約0.1重量％的除甲烷之外的烷烴或它們的類似烯烴。

16.權利要求13所述的方法，其中所述有機腈雜質包含丙烯腈、乙腈或丙腈，或其混合物。

17.權利要求13-16中任一項所述的方法，其中與通過其中烷烴混合物包含更高含量的除甲烷之外的烷烴或它們的類似烯烴的方法制備的HCN比較，觀察到所述產物中更少量的HCN聚合物形成。

18.一種減少用于HCN制備的氧安德盧梭連續工藝中設備停工時間的方法，所述方法包括使氨、氧和烷烴混合物在鉑催化劑的存在下、在適合于進行安德盧梭氨氧化反應的條件下接觸，其中所述烷烴混合物包含小于約2重量％的除甲烷之外的烷烴或它們的類似烯烴。