[發明專利]一種ICF靶丸內冰層折射率分布的測量裝置和方法有效
| 申請號: | 202010133607.2 | 申請日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN111289469B | 公開(公告)日: | 2021-03-23 |
| 發明(設計)人: | 劉東;嚴天亮;陳楠;盧岸;胡曉波;臧仲明;張鵠翔 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | G01N21/41 | 分類號: | G01N21/41 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人: | 彭劍 |
| 地址: | 310013 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 icf 靶丸內 冰層 折射率 分布 測量 裝置 方法 | ||
本發明公開了一種ICF靶丸內冰層折射率分布的測量裝置和方法,測量裝置包括光纖激光器、光纖準直鏡、第一偏振分束鏡、載有反射鏡的PZT(壓電陶瓷)、分束鏡、第二偏振分束鏡、待測靶丸、成像鏡、線偏振片、CCD圖像傳感器、LED、光闌、電腦。測量方法包括:利用背光投影光路將靶丸定位好后,通過干涉光路采集靶丸的四步移相干涉圖;對移相干涉圖進行解相位、解包裹、以及Zernike擬合等操作,在所得的波面上選取兩個相近的環帶;利用基于OPD的反演方法,依次求出環帶折射率、基準折射率,從而得出折射率分布;再次應用坐標轉換,即得到靶丸坐標系的折射率分布。利用本發明,可以實現快速、非接觸式測量。
技術領域
本發明屬于光學精密測量技術領域,尤其是涉及一種ICF靶丸內冰層折射率分布的測量裝置和方法。
背景技術
慣性約束聚變(ICF)要求以多束高能量脈沖激光,同時均勻照射在靶丸上從而產生均勻內爆,進而誘發核聚變。靶丸是由球殼、冰層及燃料氣體等組成的多層球形,在冰層凝結的過程中,有可能會出現冰層內表面過于粗糙、各層內部存在氣室等。這些不均勻可以分別表征為靶丸冰層厚度與折射率分布的不均勻。這種不均勻會導致不均勻的內爆,從而將無法誘發核聚變。因此,靶丸的均勻性是慣性約束聚變工程中的一個重要參數。
現存的靶丸均勻性表征多集中于厚度均勻性,而對折射率均勻性表征的關注較少。中國工程物理研究院激光聚變研究中心利用X射線相襯成像法(Wang K,Lei H,Li J,etal.Characterization of inertial confinement fusiontargets using X-ray phasecontrast imaging[J].(Optics Communications,2014,VOL.332:P9~13.))獲取了冰層內表面形貌。該方法可以將靶丸球殼、冰層的折射率的影響從測量結果中解耦合,直接求得靶丸的各層厚度。但是,對于各層的折射率表征,此方法卻無法實現。美國的NIF項目使用白光干涉儀(Weinstein B W.White-light interferometric measurement of the wallthickness of hollow glass microspheres[J].(Journal ofApplied Physics,1975,VOL.46,No.12:P5305~5306)),可以在已知靶丸球殼的折射率或厚度中任一值時,求解出厚度或折射率。但是,該方法求解出的折射率僅為平均折射率,同樣無法表征折射率分布情況。北京理工大學結合了低相干干涉和差動共焦光路(Wang L,Qiu L,Zhao W,et al.Laserdifferential confocal inner-surface profile measurement method for an ICFcapsule[J].(Optics Express,2017,VOL.25,No.23:P28510~28523)),通過共聚焦對靶丸進行全角度掃描,利用低相干干涉得到內表面分布及折射率。但是該方法并未給出最終的折射率分布,且需要利用共聚焦進行逐區域掃描,非常耗時,難以實現在線檢測;此外靶丸的旋轉機構復雜,對硬件要求高,并且會引入調整誤差,從而影響最終的折射率分布檢測結果。上述檢測方法,對于靶丸內冰層折射率分布的表征暫無最終結果。
因此設計出能精確測量ICF靶丸內冰層折射率分布的裝置及方法是很有必要的。
發明內容
為解決現有技術的不足,本申請提供了一種ICF靶丸內冰層折射率分布的測量裝置和方法,實現快速、非接觸式測量,得到靶丸內冰層折射率分布。
一種ICF靶丸內冰層折射率分布的測量裝置,包括光纖激光器、光纖準直鏡、第一偏振分束鏡、載有平面反射鏡的PZT(壓電陶瓷)、非偏正分束鏡、第二偏振分束鏡、待測靶丸、透鏡、線偏振片、CCD圖像傳感器、高功率LED、光闌和電腦;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江大學,未經浙江大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010133607.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





