[發明專利]光學系統、鏡頭模組和電子設備

在審

• 申請號: 202010133603.4
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN111142240A
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 黨緒文;劉彬彬;李明;鄒海榮
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲精密光學制品有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

1.一種光學系統，其特征在于，沿光軸方向從物側至像側依次包括：

第一透鏡，具有正屈折力，所述第一透鏡近光軸區域和近圓周區域的物側面為凸面，所述第一透鏡近光軸區域的像側面為凹面；

第二透鏡，具有屈折力；

第三透鏡，具有正屈折力，所述第三透鏡近光軸區域和近圓周區域的物側面為凸面；

第四透鏡，具有屈折力；

第五透鏡，具有屈折力，所述第五透鏡近圓周區域的物側面和像側面為凸面，所述第五透鏡的物側面與像側面均為非球面，且所述第五透鏡的物側面與像側面中至少一個面設置有至少一個反曲點；

第六透鏡，具有屈折力；

第七透鏡，具有負屈折力，所述第七透鏡近光軸區域的物側面為凸面，所述第七透鏡近光軸區域的像側面為凹面，所述第五透鏡的物側面與像側面均為非球面，且所述第五透鏡的物側面與像側面中至少一個面設置有至少一個反曲點。

2.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述第二透鏡具有負屈折力，所述第二透鏡近光軸區域的物側面為凸面，所述第二透鏡近光軸區域和近圓周區域的像側面為凹面；

所述第四透鏡近光軸區域的物側面為凹面，所述第四透鏡近光軸區域的像側面為凸面；

所述第六透鏡近圓周區域的物側面為凹面，所述第六透鏡近圓周區域的像側面為凸面，所述第六透鏡的物側面與像側面均為非球面，且所述第六透鏡的物側面與像側面中至少一個面設置有至少一個反曲點。

3.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述第一透鏡為玻璃透鏡，且所述第一透鏡的物側面與像側面均為非球面，所述第一透鏡滿足條件式：

n12＞1.7；

其中，n12為所述第一透鏡對波長為546nm的光線的折射率。

4.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：

1.35≤f/EPD≤2；

其中，f為所述光學系統的有效焦距，EPD為所述光學系統的入瞳直徑。

5.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：

0.6＜TTL/(ImgH*2)＜0.8；

其中，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統的成像面于光軸上的距離，ImgH為所述光學系統有效感光區域對角線長度的一半。

6.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：

1.6＜(|SAG71|+CT7+SAG72)/CT7＜3.3；

其中，SAG71為所述第七透鏡的物側面的最大矢高，CT7為所述第七透鏡于光軸上的厚度，SAG72為所述第七透鏡的像側面的最大矢高。

7.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：

0.2＜n12/R12≤0.4；

其中，n12為所述第一透鏡對波長為546nm的光線的折射率，R12為所述第一透鏡的像側面于光軸處的曲率半徑。

8.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：

(ET1+ET2+ET3)/(CT1+CT2+CT3)＜1；

其中，ET1為所述第一透鏡的光學有效區域邊緣的厚度，ET2為所述第二透鏡的光學有效區域邊緣的厚度，ET3為所述第三透鏡的光學有效區域邊緣的厚度，CT1為所述第一透鏡于光軸上的厚度，CT2為所述第二透鏡于光軸上的厚度，CT3為所述第三透鏡于光軸上的厚度。

9.如權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：

1.75≤|f45/f3|＜41；

其中，f45為所述第四透鏡和所述第五透鏡的組合有效焦距，f3為所述第三透鏡的有效焦距。