[發明專利]圖像生成方法及裝置

在審

• 申請號: 202010132844.7
• 申請日: 2020-02-29
• 公開（公告）號: CN113325437A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 唐夢研;羅洪鹍;周開城;王艷秋;陳偉杰;楊兵;馮曉剛
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: G01S17/894
• 分類號: G01S17/894;G01S17/10;G01S7/484;G06T7/50;G06T7/521
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 吳瑜

1.一種TOF深度傳感模組，其特征在于，所述TOF深度傳感模組包括第一投射器、第二投射器和感光單元，其中，

所述第一投射器用于向目標物體發射第一發射光；

所述第二投射器用于向所述目標物體發射第二發射光，所述第二發射光的形態與所述第一發射光的形態不同；

所述感光單元用于接收第一反射光，所述第一反射光包括所述目標物體對所述第一發射光反射的反射光；

所述感光單元還用于接收第二反射光，所述第二反射光包括所述目標物體對所述第二發射光反射的反射光；

所述感光單元還用于根據所述第一反射光生成第一幅值圖，以及根據所述第二反射光生成第二幅值圖。

2.根據權利要求1所述的TOF深度傳感模組，其特征在于，所述第一投射器包括發光二極管和遮光格柵，所述第二投射器包括垂直腔面發射激光器、準直透鏡和衍射光柵。

3.根據權利要求1或2所述的TOF深度傳感模組，其特征在于，所述第一發射光和所述第二發射光均為非面光。

4.根據權利要求3所述的TOF深度傳感模組，其特征在于，所述第一發射光的投影與所述第二發射光的投影不同。

5.根據權利要求4所述的TOF深度傳感模組，其特征在于，所述第一發射光投影的亮區的個數與所述第二發射光投影的亮區的個數相等；或者，所述第一發射光投影的亮區的個數大于所述第二發射光投影的亮區的個數。

6.根據權利要求4或5所述的TOF深度傳感模組，其特征在于，所述第一發射光投影的亮區與所述第二發射光投影的亮區互補。

7.根據權利要求1或2所述的TOF深度傳感模組，其特征在于，所述第一發射光為非面光，所述第二發射光為面光。

8.一種圖像生成方法，其特征在于，所述方法應用于終端設備；所述終端設備包括第一投射器和第二投射器；所述方法包括：

接收控制指令；

響應控制指令，控制所述第一投射器向目標物體發射第一發射光，以及控制所述第二投射器向所述目標物體發射第二發射光；其中，所述第二發射光的形態與所述第一發射光的形態不同；

接收第一反射光，所述第一反射光包括所述目標物體對所述第一發射光反射的反射光；

接收第二反射光，所述第二反射光包括所述目標物體對所述第二發射光反射的反射光；

根據所述第一反射光生成第一幅值圖，以及根據所述第二反射光生成第二幅值圖；

根據所述第一幅值圖和所述第二幅值圖得到目標深度圖，所述目標深度圖用于表示所述目標物體的深度信息。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一投射器包括發光二極管和遮光格柵，所述第二投射器包括垂直腔面發射激光器、準直透鏡和衍射光柵。

10.根據權利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述第一發射光和所述第二發射光均為非面光。

11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一發射光的投影與所述第二發射光的投影不同。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述第一發射光投影的亮區的個數與所述第二發射光投影的亮區的個數相等；或者，所述第一發射光投影的亮區的個數大于所述第二發射光投影的亮區的個數。

13.根據權利要求11或12所述的方法，其特征在于，所述第一發射光投影的亮區與所述第二發射光投影的亮區互補。

14.根據權利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述第一發射光為非面光，所述第二發射光為面光。