[發(fā)明專利]適應(yīng)于BNCT系統(tǒng)的復(fù)合中子靶

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010132209.9
• 申請日: 2020-02-29
• 公開（公告）號: CN111212510A
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孟瑞君;包尚聯(lián)
• 申請（專利權(quán)）人: 北京惠康得醫(yī)療科技研究院有限公司
• 主分類號: H05H3/06
• 分類號: H05H3/06;A61N5/10
• 代理公司: 北京市卓華知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11299
• 代理人: 周瑞艷

1.適應(yīng)于BNCT系統(tǒng)的復(fù)合中子靶，包括靶板，其特征在于所述靶板包括依次分布的鉭靶層、鈹靶層和散熱基層，其中鉭靶層在前，散熱基層在后，鈹靶層在前述兩者之間，所述鉭靶層采用金屬鉭和/或鉭合金制成，所述鈹靶層采用金屬鈹和/或鈹合金制成，所述散熱基層的內(nèi)部和/或所述散熱基層與所述鈹靶層之間設(shè)有冷卻劑流道，所述冷卻劑流道設(shè)有進(jìn)出端口。

2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述散熱基層采用導(dǎo)熱金屬材料制成。

3.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述鉭靶層、鈹靶層和散熱基層采用擴(kuò)散連接方式結(jié)為一體。

4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述散熱基層由一層散熱單層構(gòu)成或者由多層散熱單層構(gòu)成，當(dāng)所述散熱基層由多層散熱單層構(gòu)成時，各散熱單層通過擴(kuò)散連接方式結(jié)為一體。

5.如權(quán)利要求4所述的復(fù)合中子靶，其特征在于至少一個散熱單層的靶體內(nèi)表面開設(shè)有一條或多條連通的溝槽，所述冷卻劑流道由開設(shè)在散熱單層的靶體內(nèi)表面上的所述溝槽構(gòu)成。

6.如權(quán)利要求5所述的復(fù)合中子靶，其特征在于散熱單層表面上用于構(gòu)成流道的溝槽采用機(jī)加工或者蝕刻方式加工而成。

7.如權(quán)利要求5所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述靶體內(nèi)的冷卻劑流道為一層或多層。

8.如權(quán)利要求5所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述靶板設(shè)有邊框。

9.如權(quán)利要求8所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述靶體安裝在所述邊框上，通過可拆連接方式與所述邊框安裝固定。

10.如權(quán)利要求8所述的復(fù)合中子靶，其特征在于所述冷卻劑流道的進(jìn)出端口設(shè)置在所述邊框的側(cè)面并設(shè)有用于連接外部冷卻介質(zhì)循環(huán)管道的密封連接結(jié)構(gòu)。