[發明專利]一種液體電極介質阻擋放電裝置在審
| 申請號: | 202010130727.7 | 申請日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN111320227A | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發明(設計)人: | 劉東平;齊志華 | 申請(專利權)人: | 大連理工大學 |
| 主分類號: | C02F1/30 | 分類號: | C02F1/30;C02F1/46 |
| 代理公司: | 大連東方專利代理有限責任公司 21212 | 代理人: | 房艷萍;李馨 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 液體 電極 介質 阻擋 放電 裝置 | ||
本發明公開了一種液體電極形式的介質阻擋放電裝置,包括依次相連通的氣室、介質桶、儲水槽,所述氣室的內部鑲嵌有水柱噴頭,所述水柱噴頭的噴口位于介質桶的內部,所述水柱噴頭與進水槽相連通,氣室與氣泵相連接,介質桶與高壓電源相連接。介質桶內部的中間設置有空心夾層,在介質桶空心夾層處注滿導電液體作為液體高壓電極,所述水幕噴頭與地線連接,作為地電極。本發明采用液體電極放電避免了傳統電極產生的尖端放電及絲狀放電等放電不均勻現象。在進行等離子體活化水制備過程中,產生的等離子體活化水可以直接作用于待處理物表面,避免了等離子體活化水在容器內滯留導致活性衰退。
技術領域
本發明涉及污水處理及等離子體活化水產生領域,特別涉及一種液體電極式的介質阻擋放電裝置及工作方法。
背景技術
我國是一個人均水資源匱乏的國家,被列為世界上十三個貧水國之一。隨著我國工業化和城鎮化的推進,日趨嚴重的水污染不僅降低了水體的使用功能,進一步加劇了水資源短缺的矛盾。現有處理方法,例如凝結,絮凝,沉淀,微濾和超濾,在去除微量持久性有機化合物方面無效。化學試劑氧化水相中的微量有毒有機物時容易引發水體二次污染。因此研制一種新型等離子體產生裝置對污水凈化是非常必要的。
使用傳統地消毒液對物品進行消毒時,消毒液釋放的刺激性氣味及殘留容易影響到使用者的健康,而等離子體活化后的水溶液是具有一定消毒能力,同時無殘留的活化溶液。因此,使用設計一種等離子體發生器可以對水體進行活化從而制備成等離子體活化水是十分必要的。
發明內容
為解決現有技術的問題,本發明目的在于提供一種液體電極形式的介質阻擋放電裝置,是一種結構精巧、使用方便、效果明顯、成本低廉、衛生安全的等離子體廢水處理及等離子體活化水制備裝置。
為實現上述目的,本發明提供了一種液體電極形式的介質阻擋放電裝置,包括依次相連通的氣室、介質桶、儲水槽,所述氣室的內部鑲嵌有水柱噴頭,所述水柱噴頭位于氣室和介質桶的內部,所述水柱噴頭的噴口位于介質桶的內部,所述水柱噴頭與進水槽相連通,所述氣室與氣泵相連接,所述介質桶與高壓電源相連接。
進一步的,所述水柱噴頭與氣室之間設置有密封圈,用于對水柱噴頭與氣室的連接處進行密封。
進一步的,所述水柱噴頭的一端位于氣室和介質桶的內部,另一端與進水槽相連通。
進一步的,所述水柱噴頭與地線連接,作為地電極。
進一步的,所述水柱噴頭鑲嵌于氣室的內部,所述水柱噴頭的噴口位于介質桶的內部。所述水柱噴頭的噴口與介質桶的內壁之間預留距離,方便氣體流入。其預留距離根據工作方式進行更改。
進一步,所述水柱噴頭的材質為導電良好的金屬材料,如不銹鋼、鋁合金等,可根據需求對其噴出水柱或水幕形狀進行改變。
進一步,所述水柱噴頭為多水柱式噴頭、噴霧式噴頭、水幕式噴頭或單水柱式噴頭。
進一步,所述水柱噴頭方向可以自上而下,也可以自下而上,根據實際需求對水柱噴頭方向進行調整。
進一步的,所述水柱噴頭與進水槽之間設置有水泵。
進一步的,所述水柱噴頭與進水槽通過水管相連通。
進一步的,所述氣室設置有進氣孔,進氣孔開設位置位于均流板上部,所述氣室通過進氣孔與氣泵相連。氣泵將氣體注入氣室內,經過氣室內均流板后流入到介質桶內。
進一步的,所述均流板為環形結構,其上開有通氣孔。
進一步的,所述氣室內部均流板位于距氣室底部10mm處,均流板上開有半徑為2mm,孔心距為3mm的圓孔陣列,圓孔即為通氣孔。
進一步的,所述氣室通過氣管與氣泵相連,所述氣室通過進氣孔經氣管與氣泵相連。
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