[發(fā)明專利]一種擴(kuò)大探測(cè)視野的位置靈敏探測(cè)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010130268.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111190212A | 公開(公告)日: | 2020-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張嵐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京鑭宇科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01T1/202 | 分類號(hào): | G01T1/202;G01T1/24;G01T1/205 |
| 代理公司: | 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212 | 代理人: | 劉紅陽(yáng) |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 擴(kuò)大 探測(cè) 視野 位置 靈敏 裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種擴(kuò)大探測(cè)視野的位置靈敏探測(cè)裝置,包括:面陣列的讀出電子學(xué)單元,所述讀出電子學(xué)單元上耦合有多個(gè)耦合晶體或氣體探測(cè)器。本發(fā)明提供的探測(cè)裝置,利用傾斜的耦合晶體,擴(kuò)展了射線源定向的視野范圍,同時(shí)通過(guò)調(diào)整晶體的長(zhǎng)度,提高探測(cè)器的效率,提高可探測(cè)的射線能量范圍,從而實(shí)現(xiàn)了擴(kuò)展射線入射方向視野功能的同時(shí),提升探測(cè)效率,更快速的提供實(shí)時(shí)測(cè)試數(shù)據(jù)的能力。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及輻射探測(cè)及輻射成像技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種擴(kuò)大探測(cè)視野的位置靈敏探測(cè)裝置。
背景技術(shù)
在核電,核醫(yī)療,核材料的全流程處置等領(lǐng)域,都需要對(duì)放射性材料進(jìn)行探測(cè),需要測(cè)試被監(jiān)測(cè)環(huán)境中的放射性劑量,識(shí)別放射性核素的種類名稱,進(jìn)行核素的能譜探測(cè)。更進(jìn)一步的需要了解放射性核素在環(huán)境中的三維分布信息。
在劑量與核素識(shí)別基礎(chǔ)上,能夠提供放射性核素分布信息的系統(tǒng),常用的有基于NaI閃爍體的伽馬相機(jī)。這個(gè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)是編碼板,加閃爍板耦合面陣列的PD或SiPM陣列。優(yōu)勢(shì)是可以給出射線源分布信息。缺點(diǎn)是,只能提供約40度角內(nèi)的射線源分布,而實(shí)際需求是360度的全景分布,此時(shí)需要多個(gè)伽馬相機(jī)拼接,或在兩個(gè)維度旋轉(zhuǎn),才能獲取全景射線源分布信息。其另一個(gè)缺點(diǎn)是,射線能量最高只能到1.5Mev,不能達(dá)到常規(guī)的3Mev探測(cè)范圍。
另一種提供射線源三維信息的設(shè)備,是基于CdZnTe探測(cè)器器的康普頓相機(jī)。在提供劑量與核素識(shí)別信息外,利用CZT探測(cè)器本身的三維位置靈敏功能,及康普頓散射原理,不需要旋轉(zhuǎn)和拼接,該系統(tǒng)可以給出360度全景范圍內(nèi)的射線源分布信息。該系統(tǒng)的缺點(diǎn)是CZT晶體昂貴,探測(cè)系統(tǒng)復(fù)雜,數(shù)據(jù)處理繁復(fù),使得通常的CZT系統(tǒng)都是小體積的,探測(cè)效率低,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的反應(yīng)速度受到限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決現(xiàn)有的探測(cè)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)探測(cè)效率低、探測(cè)視野范圍窄的問(wèn)題,所采用的技術(shù)方案是:一種擴(kuò)大探測(cè)視野的位置靈敏探測(cè)裝置,包括:面陣列的讀出電子學(xué)單元,所述讀出電子學(xué)單元上耦合有多個(gè)耦合晶體或氣體探測(cè)器。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述耦合晶體或氣體探測(cè)器垂直或傾斜于所述讀出電子學(xué)單元的陣列平面。
進(jìn)一步改進(jìn)為,相鄰的兩個(gè)所述耦合晶體或兩個(gè)所述氣體探測(cè)器之間設(shè)有射線阻擋件。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述射線阻擋件為鉛、鎢、鐵、鋁中的任一種。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述耦合晶體或氣體探測(cè)器的頂面設(shè)有編碼板。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述編碼板為平板或弧形板。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述讀出電子學(xué)單元為含有光靈敏探測(cè)的PD或SiPM面陣列。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述PD或SiPM面陣列表面耦合閃爍類晶體。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述讀出電子學(xué)單元為讀取電荷信號(hào)的面陣列電極。
進(jìn)一步改進(jìn)為,所述面陣列電極上耦合半導(dǎo)體晶體或氣體探測(cè)器。
本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明提供的擴(kuò)大探測(cè)視野的位置靈敏探測(cè)裝置,通過(guò)特殊的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),利用傾斜的耦合晶體,擴(kuò)展了射線源定向的視野范圍,從原來(lái)的40度左右的視野角度,擴(kuò)展到接近180度。同時(shí)通過(guò)調(diào)整晶體的長(zhǎng)度,提高探測(cè)器的效率,提高可探測(cè)的射線能量范圍。從而實(shí)現(xiàn)了擴(kuò)展射線入射方向視野功能的同時(shí),提升探測(cè)效率,更快速的提供實(shí)時(shí)測(cè)試數(shù)據(jù)的能力。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
圖1是本發(fā)明的讀出電子學(xué)單元結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明的探測(cè)裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明的探測(cè)裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京鑭宇科技有限公司,未經(jīng)北京鑭宇科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010130268.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)電路及位置檢測(cè)方法
- 位置估計(jì)設(shè)備、位置估計(jì)方法、以及位置估計(jì)系統(tǒng)
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)方法及位置檢測(cè)程序
- 位置辨識(shí)裝置、位置辨識(shí)系統(tǒng)以及位置辨識(shí)方法
- 位置指示器、位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)電路以及位置檢測(cè)方法
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)系統(tǒng)以及位置檢測(cè)方法
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)系統(tǒng)以及位置檢測(cè)方法
- 位置檢測(cè)裝置、位置檢測(cè)方法以及位置檢測(cè)系統(tǒng)
- 位置估計(jì)方法、位置估計(jì)裝置、以及位置估計(jì)系統(tǒng)
- 位置檢測(cè)方法、位置檢測(cè)裝置以及位置檢測(cè)系統(tǒng)





