[發明專利]微透鏡陣列結構的制備方法和保護膜

有效

• 申請號: 202010129950.X
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN111399092B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 巫金波;丁葉凱;溫維佳;薛廠;張萌穎;林銀銀
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 石家莊旭昌知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 13126
• 代理人: 張會強

1.一種微透鏡陣列結構的制備方法，其特征在于：該方法包括制備具有固化的SU8凸透鏡陣列的硅片模板，還包括微透鏡陣列結構的制備，其中，

所述硅片模板的制備包括如下的步驟：

a.使用1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷修飾硅片使硅片表面具有不潤濕性；

b.通過光刻技術在不潤濕的硅片表面制備呈陣列排布的圓形圖案，形成圖案化的表面；

c.采用玻璃刷片，并用機械手控制玻璃刷片的位置和帶動玻璃刷片移動，在玻璃刷片與硅片之間添加SU8光刻膠溶液，使得溶液布滿整個縫隙，利用機械手拖動玻璃刷片帶動SU8光刻膠溶液在圖案化的硅片表面上滑動，形成SU8光刻膠液滴陣列；

d.通過紫外光曝光2s，并在95℃條件下加熱90s，即得到具有固化的SU8凸透鏡陣列的硅片模板；

所述微透鏡陣列結構的制備包括如下步驟：

e.將PDMS的預聚物和固化劑按10：1質量比混合并攪拌均勻，去除氣泡后傾倒在具有SU8凸透鏡陣列的所述硅片模板上，室溫下放置使PDMS充分展開鋪平；

f.于60℃條件下加熱固化，揭開傾倒的PDMS得到柔性PDMS微透鏡陣列，且所述微透鏡陣列為凹透鏡陣列；

g.在容器內加入1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷，將制備的柔性PDMS凹透鏡陣列放入容器內，并置于烘箱中加熱2h，對制備的柔性PDMS凹透鏡陣列進行疏水處理；

h.將PDMS的預聚物和固化劑按10：1質量比混合并攪拌均勻，去除氣泡后傾倒在柔性PDMS凹透鏡陣列的凹陷側，室溫下放置使PDMS充分展開鋪平；

i.于60℃條件下加熱固化，揭開傾倒的PDMS得到柔性PDMS凸透鏡陣列。

2.根據權利要求1所述的微透鏡陣列結構的制備方法，其特征在于：所制備的陣列排布的圖案中，各位置處圖案的尺寸相同，或者沿其一排列方向各圖案具有尺寸梯度，或者至少有一位置處的圖案的尺寸和其它位置處不同。

3.根據權利要求1所述的微透鏡陣列結構的制備方法，其特征在于：步驟e中室溫下放置12h，步驟f中為60℃條件下加熱固化1h。

4.根據權利要求1所述的微透鏡陣列結構的制備方法，其特征在于：步驟h中為室溫下放置12h，步驟i中為60℃條件下加熱固化1h。

5.一種含微透鏡陣列的保護膜，其特征在于：所述保護膜用于對照明設備的出光面及電子產品的顯示屏進行保護，所述保護膜中具有薄膜狀的基材層，所述基材層上制備有微透鏡陣列，且所述基材層上的所述微透鏡陣列的制備方法包括先采用權利要求1中所述硅片模板的制備步驟，制備具有固化的SU8凸透鏡陣列的硅片模板，還包括將所述基材層加熱到玻璃化溫度，再覆蓋于具有固化的SU8凸透鏡陣列的所述硅片模板上，靜置處理后在所述基材層的一面形成所述微透鏡陣列，且所述微透鏡陣列為凹透鏡陣列。

6.根據權利要求5所述的含微透鏡陣列的保護膜，其特征在于：所述基材層采用PET材質、PVC材質、PE材質和PP材質中的一種，且所述基材層覆蓋于所述硅片模板上后靜置處理50-70mim，以在所述基材層的一面形成凹透鏡陣列。

7.根據權利要求6所述的含微透鏡陣列的保護膜，其特征在于：于所述基材層具有所述凹透鏡陣列的一面貼合有PET離型膜，于所述基材層的另一面涂布有膠水，并貼合有PET離型膜。

8.根據權利要求7所述的含微透鏡陣列的保護膜，其特征在于：所述膠水為硅膠、亞克力膠和PU膠中的一種。