[發明專利]人臉圖像的試妝處理方法、裝置、計算機設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202010129222.9
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN111369644A
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 孫宇超;王東媛;姚聰
• 申請（專利權）人: 北京曠視科技有限公司
• 主分類號: G06T11/60
• 分類號: G06T11/60
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 朱五云

1.一種人臉圖像的試妝處理方法，所述方法包括：

獲取人臉圖像上的待試妝部位圖像；

獲取所述待試妝部位圖像的蒙版圖像；所述蒙版圖像用于渲染所述待試妝部位圖像；

將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合，得到試妝圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合，得到試妝圖像，包括：

確定所述待試妝部位圖像上大于或等于預設閾值的第一像素點的像素值；

確定所述待試妝部位圖像上小于所述預設閾值的第二像素點的像素值；

根據所述第一像素點的像素值、所述第二像素點的像素值、以及所述蒙版圖像，確定所述試妝圖像。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據所述第一像素點的像素值、所述第二像素點的像素值、以及所述蒙版圖像，確定所述試妝圖像，包括：

根據所述待試妝部位圖像上第一像素點的像素值和所述蒙版圖像上與第一像素點對應的像素值，通過第一融合方式得到目標第一像素點的像素值；

根據所述待試妝部位圖像上第二像素點的像素值和所述蒙版圖像上與第二像素點對應的像素值，通過第二融合方式得到目標第二像素點的像素值；

根據所述目標第一像素點的像素值和所述目標第二像素點的像素值，確定所述試妝圖像。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一融合方式為濾色方式，所述第二融合方式為正片疊底。

5.根據權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，所述將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合之前，所述方法還包括：

對所述待試妝部位圖像進行模糊處理，得到中間待試妝部位圖像；

獲取所述待試妝部位圖像上的像素點的像素值與所述中間待試妝部位圖像上對應的像素點的像素值之間的像素差值；

若所述像素差值大于預設像素閾值，將所述像素差值對應的所述待試妝部位圖像上的像素點進行亮度削弱處理，得到處理后的待試妝部位圖像；

所述將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合，包括：

將所述蒙版圖像和所述處理后的待試妝部位圖像進行融合。

6.根據權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，所述將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合之前，所述方法還包括：

按照預設的調節參數，對所述蒙版圖像的對應參數進行調整，得到調整參數后的蒙版圖像；所述調節參數包括飽和度閾值和/或明亮度閾值；

所述將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合，包括：

將所述調整參數后的蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述獲取人臉圖像上的待試妝部位圖像，包括：

對所述人臉圖像進行關鍵點檢測，得到所述人臉圖像上的關鍵點；

根據所述關鍵點確定表示待試妝部位邊界的稠密關鍵點；

根據所述稠密關鍵點確定所述待試妝部位圖像。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合，得到試妝圖像之后，所述方法還包括：

將所述試妝圖像與所述人臉圖像進行融合，得到完整試妝圖像。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取所述待試妝部位圖像的蒙版圖像，包括：

獲取預設的上妝參數；所述上妝參數包括上妝顏色參數、上妝亮度參數、以及上妝亮片參數；

根據所述上妝參數確定所述蒙版圖像。

10.一種人臉圖像的試妝處理裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一獲取模塊，用于獲取人臉圖像上的待試妝部位圖像；

第二獲取模塊，用于獲取所述待試妝部位圖像的蒙版圖像；所述蒙版圖像用于渲染所述待試妝部位圖像；

融合模塊，用于將所述蒙版圖像和所述待試妝部位圖像進行融合，得到試妝圖像。