[發(fā)明專利]一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010125931.X | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN111139437A | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王偉;盧成;陳洪超 | 申請(專利權(quán))人: | 成都國泰真空設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30 |
| 代理公司: | 成都其高專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 51244 | 代理人: | 廖曾 |
| 地址: | 611130 四川省成都市溫江*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 轉(zhuǎn)動 式熔料 裝置 | ||
1.一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,包括:殼體(1)、坩堝盤(2)、電子槍(3)和步進電機;
所述殼體(1)內(nèi)開設(shè)有腔室(11);
所述坩堝盤(2)設(shè)置于所述腔室(11)內(nèi)的底壁處;
所述電子槍(3)設(shè)置于所述腔室(11)內(nèi)并位于所述坩堝盤(2)的一側(cè),所述電子槍(3)朝向所述坩堝盤(2);
所述步進電機設(shè)置于所述殼體(1)內(nèi)并位于所述腔室(11)外,所述步進電機的轉(zhuǎn)軸從所述腔室(11)的底壁伸入所述腔室(11)內(nèi),并與所述坩堝盤(2)固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述熔料裝置還包括:真空排氣件(4)和抽氣管(5);
所述真空排氣件(4)設(shè)置于所述殼體(1)內(nèi)并靠近所述腔室(11);
所述抽氣管(5)的一端與所述腔室(11)連通,所述抽氣管(5)的另一端與所述真空排氣件(4)連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述抽氣管(5)的一端從所述腔室(11)的底部或側(cè)壁伸入所述腔室(11)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述抽氣管(5)上設(shè)置有閥門(51)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述真空排氣件(4)的一側(cè)設(shè)置有排氣口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述坩堝盤(2)遠離所述底壁的一面環(huán)饒設(shè)置有多個坩堝(21)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述坩堝盤(2)內(nèi)的坩堝(21)等間距分布。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述電子槍(3)的開口朝向所述坩堝盤(2)遠離所述底壁的一面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述轉(zhuǎn)軸的外徑與所述坩堝盤(2)靠近所述底壁的一面開設(shè)的連接孔的內(nèi)徑相同;
所述轉(zhuǎn)軸套設(shè)于所述連接孔以實現(xiàn)與所述坩堝盤(2)的可拆卸式連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種轉(zhuǎn)動式熔料裝置,其特征在于,所述步進電機的轉(zhuǎn)軸通過磁流體與所述坩堝盤(2)連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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