[發(fā)明專利]一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010124599.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111326675A | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳善韜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/52 | 分類號(hào): | H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 張佳 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 面板 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括:襯底,位于所述襯底之上的像素定義層,位于所述像素定義層之上的陰極隔離結(jié)構(gòu);
所述陰極隔離結(jié)構(gòu)至少包括:第一隔離子層,以及位于所述像素定義層和所述第一隔離子層之間的第二隔離子層;
在平行于所述襯底的方向上,所述第二隔離子層的橫截面小于所述第一隔離子層的橫截面,且所述第二隔離子層在所述襯底的正投影的邊界落入所述第一隔離子層在所述襯底的正投影內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述陰極隔離結(jié)構(gòu)還包括:在所述像素定義層與所述第二隔離子層之間的第三隔離子層;
在平行于所述襯底的方向上,所述第二隔離子層的橫截面小于所述第三隔離子層的橫截面,且所述第二隔離子層在所述襯底的正投影的邊界落入所述第三隔離子層在所述襯底的正投影內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第三隔離子層在所述襯底的正投影與所述第一隔離子層在所述襯底的正投影重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一隔離子層的厚度不小于200納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一隔離子層的材料包括氧化硅,所述第二隔離子層的材料包括聚酰亞胺,所述第三隔離子層的材料包括氮化硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:與所述像素定義層相互間隔設(shè)置的陽極,位于所述陽極之上的發(fā)光功能層,位于所述發(fā)光功能層之上的陰極;其中,所述陰極包括:位于所述第一隔離子層之上的第一部分以及位于所述陰極隔離結(jié)構(gòu)之外區(qū)域的第二部分,所述第一部分和所述第二部分之間斷開。
7.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,所述方法包括:
在襯底之上形成像素定義層;
在所述像素定義層之上形成第二隔離子層以及在所述第二隔離子層之上形成第一隔離子層;其中,在平行于所述襯底的方向上,所述第二隔離子層的橫截面小于所述第一隔離子層的橫截面,且所述第二隔離子層在所述襯底的正投影的邊界落入所述第一隔離子層在所述襯底的正投影內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,在所述像素定義層之上形成第二隔離子層之前,所述方法還包括:
在所述像素定義層上形成第三隔離子層;其中,在平行于所述襯底的方向上,所述第二隔離子層的橫截面小于所述第三隔離子層的橫截面,且所述第二隔離子層在所述襯底的正投影的邊界落入所述第三隔離子層在所述襯底的正投影內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,在所述像素定義層之上形成第三隔離子層、第二隔離子層,以及第一隔離子層,具體包括:
在所述像素定義層之上形成整層第三隔離子層;
在所述第三隔離子層上形成整層第二隔離子層;
在所述第二隔離子層上形成整層第一隔離子層;
在所述第一隔離子層上涂覆光刻膠;
采用曝光顯影工藝形成所述光刻膠的圖案;
采用刻蝕工藝處理所述第一隔離子層、所述第二隔離子層、以及所述第三隔離子層,以使所述第三隔離子層在所述襯底的正投影與所述第一隔離子層在所述襯底的正投影重合,并對(duì)所述第二隔離子層進(jìn)行側(cè)面過刻,形成所述第一隔離子層的圖案、所述第二隔離子層的圖案、以及所述第三隔離子層的圖案;
去除所述光刻膠。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,在所述像素定義層之上形成陰極隔離結(jié)構(gòu)之前,所述方法還包括:
形成與所述像素定義層相互間隔的陽極的圖案;
在所述像素定義層之上形成陰極隔離結(jié)構(gòu)之后,所述方法還包括:
在所述陽極之上形成發(fā)光功能層;
在所述發(fā)光功能層之上采用濺射工藝形成陰極的圖案,其中,所述陰極包括:位于所述第一隔離子層之上的第一部分以及位于所述陰極隔離結(jié)構(gòu)之外區(qū)域的第二部分,所述第一部分和所述第二部分之間斷開。
11.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的顯示面板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
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H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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