[發明專利]一種梳式芯片膜上分離裝置有效
| 申請號: | 202010123813.5 | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN111312650B | 公開(公告)日: | 2021-07-02 |
| 發明(設計)人: | 趙凱;林海濤;程坤喜 | 申請(專利權)人: | 上海世禹精密機械有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司: | 上海遠同律師事務所 31307 | 代理人: | 張堅 |
| 地址: | 201600 上海市松江*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 芯片 分離 裝置 | ||
1.一種梳式芯片膜上分離裝置,包括真空吸頭(330),所述真空吸頭(330)的頂壁上設有中心孔(333)以及環繞所述中心孔(333)布置的吸氣孔(332),其特征在于:還包括設于真空吸頭(330)內分離器(700)以及用于驅動所述分離器(700)升降的升降驅動機構,所述分離器(700)包括伸入所述中心孔(333)中的兩排梳齒(741)以及能夠驅動所述兩排梳齒(741)并攏或張開的驅動裝置,所述梳齒(741)能夠在所述升降驅動機構的驅動下高出所述真空吸頭(330)的頂壁,所述驅動裝置為活塞驅動、液壓驅動,或者采用導軌、絲杠、伺服電機配合驅動。
2.按照權利要求1所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述驅動裝置包括基座(710)、設于所述基座(710)兩側的擋塊(714)、跨接于兩側擋塊(714)間的導桿(720)、穿設于所述導桿(720)上的兩個滑動塊(740)以及套設于所述導桿(720)上且兩端分別與所述兩個滑動塊(740)相抵的復位彈簧(721),所述兩排梳齒(741)分別設于所述兩個滑動塊(740)的頂面上,還包括設于兩側擋塊(714)中的氣缸腔(711)、設于所述氣缸腔(711)中的微型活塞(730),所述微型活塞(730)與所述滑動塊(740)連接,所述氣缸腔(711)與進氣機構相連通,所述微型活塞(730)能夠在所述進氣機構的驅動下在所述氣缸腔(711)內運動。
3.按照權利要求2所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述梳齒(741)分別設于所述兩個滑動塊(740)相向側的頂面邊緣處。
4.按照權利要求2所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:還包括C形連接座(310),所述連接座(310)包括底板(311),連接于底板(311)一端的豎板(312)以及連接于所述豎板(312)頂端與所述底板(311)相對布置的頂板(313),所述頂板(313)上設有支撐筒(320),所述真空吸頭(330)連接于所述支撐筒(320)上。
5.按照權利要求4所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述支撐筒(320)的側壁上設有氣嘴(321),所述支撐筒(320)內設有連通所述氣嘴(321)與所述真空吸頭(330)的第一氣道(322)。
6.按照權利要求5所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述升降驅動機構包括設于所述支撐筒(320)內的頂桿(400)與設于所述連接座(310)上的升降裝置,所述頂桿(400)頂端與所述分離器(700)的基座(710)相連,所述升降裝置能夠通過所述頂桿(400)驅動所述分離器(700)進行升降。
7.按照權利要求6所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述升降裝置包括設于所述連接座(310)的豎板(312)上的第三伺服電機(340),所述第三伺服電機(340)具有伸入所述連接座(310)的頂板(313)下方的電機軸,所述電機軸上套接有凸輪(341),所述頂桿(400)穿過所述頂板(313)上的通孔(314)與所述凸輪(341)相抵。
8.按照權利要求7所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述進氣機構包括設于所述頂桿(400)上的氣管接頭(402)、設于所述頂桿(400)內的第二氣道(403)以及設于所述基座(710)內的第三氣道(712),所述第二氣道(403)連通所述氣管接頭(402)與所述第三氣道(712),所述第三氣道(712)連通所述氣缸腔(711)。
9.按照權利要求8所述的梳式芯片膜上分離裝置,其特征在于:所述進氣機構還包括電磁閥(370),所述電磁閥(370)與所述氣管接頭(402)相連。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





