[發明專利]鍍覆裝置在審
| 申請號： | 202010122398.1 | 申請日： | 2020-02-27 |
| 公開（公告）號： | CN111621832A | 公開（公告）日： | 2020-09-04 |
| 發明（設計）人： | 平尾智則;山崎岳;阿部貴宏;橫山俊夫 | 申請（專利權）人： | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號： | C25D17/00 | 分類號： | C25D17/00 |
| 代理公司： | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖華 |
| 地址： | 日本國東京都*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍覆 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種鍍覆裝置，用于對基板保持件所保持的基板進行鍍覆處理，所述鍍覆裝置的特征在于，具有：
鍍覆槽，該鍍覆槽能夠接受保持有基板的基板保持件；
擋塊部件，該擋塊部件從所述鍍覆槽的內側的壁面向所述鍍覆槽的內側延伸，并且能夠在所述鍍覆槽內移動；以及
移動機構，該移動機構用于使所述擋塊部件向配置在所述鍍覆槽內的基板保持件移動。
2.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述移動機構構成為使所述擋塊部件向配置在所述鍍覆槽內的基板保持件的側面移動。
3.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述移動機構構成為使所述擋塊部件向配置在所述鍍覆槽內的基板保持件的前面移動。
4.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述移動機構構成為使所述擋塊部件向配置在所述鍍覆槽內的基板保持件的背面移動。
5.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述擋塊部件具有密封部件，該密封部件能夠與配置在所述鍍覆槽內的基板保持件接觸。
6.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述擋塊部件在所述鍍覆槽的高度方向上延伸。
7.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述擋塊部件沿著所述鍍覆槽的內側的側面以及底面延伸。
8.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述移動機構具有流體彈簧。
9.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，
所述移動機構具有凸輪要素。
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