[發明專利]超細氣泡生成裝置以及超細氣泡生成方法

在審

• 申請號: 202010122233.4
• 申請日: 2020-02-27
• 公開（公告）號: CN111617653A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 尾崎照夫;久保田雅彥;山田顯季;今仲良行;柳內由美;有水博;石永博之
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B01F3/04
• 分類號: B01F3/04;B01F15/06
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 劉強

本發明提供一種超細氣泡生成裝置和超細氣泡生成方法，其可以有效地生成具有高純度的UFB含有液，并且可以額外地延長裝置的壽命。為此，通過在加熱元件周圍形成壁來部分地限制氣泡在其生成期間的形狀，并且氣泡消失的位置從加熱元件的位置偏移。

技術領域

本發明涉及生成直徑小于1.0μm的超細氣泡的超細氣泡生成方法和超細氣泡生成裝置、以及超細氣泡含有液。

背景技術

近來，已經開發出用于應用微細氣泡(例如直徑為微米尺寸的微氣泡和直徑為納米尺寸的納米氣泡)的特征的技術。尤其是，在各個領域中，已經確認了直徑小于1.0μm的超細氣泡(以下也稱為“UFB”)的實用性。

日本專利第6118544號公開了一種微細氣泡生成裝置，該細微氣泡生成裝置通過從減壓噴嘴噴射將氣體加壓并溶解的加壓液體來生成微細氣泡。日本專利第4456176號公開了一種通過利用混合單元重復進行氣體混合液流的分離和會聚而生成細微氣泡的裝置。

發明內容

做出本發明以解決上述問題。因此，本發明的目的是提供一種能夠有效地生成高純度的UFB含有液的超細氣泡生成裝置和超細氣泡生成方法。

本發明的超細氣泡生成裝置是用于生成超細氣泡的超細氣泡生成裝置，其包括元件基板，該元件基板包括多個通過加熱液體生成超細氣泡的加熱器以及與該加熱器連接的布線，其中，加熱器的周圍的至少一部分中包括限制構件，限制構件限制由每個加熱器的作用生成的氣泡的生長，并且在限制構件和加熱器之間設置具有預定面積的第一區域。

通過以下參考附圖對示例性實施方案的描述，本發明的其他特征將變得明顯。

附圖說明

圖1是表示UFB生成裝置的實例的圖。

圖2是預處理單元的示意性構成圖。

圖3A和圖3B是溶解單元的示意性構成圖和用于說明液體中溶解狀態的圖。

圖4是T-UFB生成單元的示意性構成圖。

圖5A和圖5B是用于說明加熱元件的細節的圖。

圖6A和圖6B是用于說明加熱元件上的膜沸騰的狀態的圖。

圖7A至圖7D是表示由膜沸騰氣泡的膨脹引起的UFB的生成狀態的圖。

圖8A至圖8C是表示由膜沸騰氣泡的收縮引起的UFB的生成狀態的圖。

圖9A至圖9C是表示由液體的再加熱引起的UFB的生成狀態的圖。

圖10A和圖10B是表示由膜沸騰生成的氣泡消失而生成的沖擊波引起的UFB的生成狀態的圖。

圖11A至圖11C是表示后處理單元的構成例的圖。

圖12A和圖12B是表示腔室的圖。

圖13A和圖13B是表示元件基板的圖。

圖14是表示其上形成有壁的元件基板的圖。

圖15A和圖15B是表示蓋基板的圖。

圖16A和圖16B是表示與供給口連接的供給管和與排出口連接的排出管的圖。

圖17A和圖17B是表示元件基板和柔性布線基板彼此電連接的狀態的圖。

圖18A至圖18C是表示設置有加熱元件的加熱器部的圖。

圖19A至圖19C是表示經時驅動加熱元件時液體起泡的狀態的圖。

圖20A至圖20K是表示按工序順序形成元件基板的工序的圖。

圖21A至圖21H是表示按工序順序形成元件基板的工序的圖。