[發(fā)明專利]基于多階數(shù)分?jǐn)?shù)階小波包變換的芯片外觀缺陷檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010121346.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111402204B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫昊;劉偉華;高會(huì)軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06T7/00 | 分類號(hào): | G06T7/00;G06K9/62;G01N21/95 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 張換男 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 多階數(shù) 分?jǐn)?shù) 波包 變換 芯片 外觀 缺陷 檢測(cè) 方法 | ||
1.一種基于多階數(shù)分?jǐn)?shù)階小波包變換的芯片外觀缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述方法具體包括以下步驟:
步驟一、使用單通道黑白相機(jī)獲取芯片外觀圖像;
步驟二、分別對(duì)步驟一獲取圖像進(jìn)行整數(shù)階數(shù)小波包分解和階數(shù)為p1、p2、p3、p4的分?jǐn)?shù)階小波包分解,獲得整數(shù)階數(shù)小波包分解結(jié)果和階數(shù)p1、p2、p3、p4對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果;
所述步驟二的具體過(guò)程為:
對(duì)步驟一獲取的圖像進(jìn)行階數(shù)為p1的分?jǐn)?shù)階小波包分解:
在行方向上,采用公式(1)對(duì)步驟一獲取圖像的數(shù)字信號(hào)進(jìn)行離散p1階傅里葉變換,得到離散p1階傅里葉變換結(jié)果DFrFTp1(I);
式中,I為步驟一獲取圖像的數(shù)字信號(hào),N為數(shù)字信號(hào)的長(zhǎng)度,WN為N×N的矩陣,和為N×N的對(duì)角線矩陣;
矩陣WN、和的定義為:
式中,WN[m,n]為矩陣WN中第m行第n列的元素,p1為階數(shù),j是虛數(shù)單位,m=1,2,…,N,n=1,2,…,N;
為矩陣中第n行第n列的元素,Δt為時(shí)間域的采樣間隔;
為矩陣中第n行第n列的元素,Δu為離散p1階傅里葉變換的采樣間隔;
Δt和Δu滿足如下關(guān)系:
在列方向上,再對(duì)DFrFTp1(I)進(jìn)行離散p1階傅里葉變換,得到二維p1階分?jǐn)?shù)階傅里葉變換結(jié)果;
在行方向上,對(duì)得到的二維p1階分?jǐn)?shù)階傅里葉變換結(jié)果進(jìn)行小波包分解,得到低通濾波結(jié)果L和高通濾波結(jié)果H,在列方向上,再分別對(duì)L和H進(jìn)行小波包分解,得到二維p1階分?jǐn)?shù)階傅里葉變換結(jié)果的近似部分LL以及細(xì)節(jié)部分HL、LH和HH;
近似部分LL以及細(xì)節(jié)部分HL、LH和HH組成第一層;
同理,再對(duì)第一層的每個(gè)部分分別進(jìn)行小波包分解,獲得第二層;第二層包括對(duì)近似部分LL進(jìn)行小波包分解獲得的1個(gè)近似部分和3個(gè)細(xì)節(jié)部分、對(duì)細(xì)節(jié)部分HL進(jìn)行小波包分解獲得的1個(gè)近似部分和3個(gè)細(xì)節(jié)部分、對(duì)細(xì)節(jié)部分LH進(jìn)行小波包分解獲得的1個(gè)近似部分和3個(gè)細(xì)節(jié)部分、對(duì)細(xì)節(jié)部分HH進(jìn)行小波包分解獲得的1個(gè)近似部分和3個(gè)細(xì)節(jié)部分;即獲得第二層包含的16個(gè)部分;
再對(duì)第二層的每個(gè)部分分別進(jìn)行小波包分解,獲得第三層包含的64個(gè)部分,最終獲得包含三層的階數(shù)p1對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果;
再重復(fù)上述過(guò)程,獲得階數(shù)p2對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果、階數(shù)p3對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果、階數(shù)p4對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果;
通過(guò)對(duì)步驟一獲取圖像直接進(jìn)行整數(shù)階數(shù)小波包分解,得到整數(shù)階數(shù)小波包分解結(jié)果;
步驟三、分別計(jì)算步驟二得到的分解結(jié)果中每個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣的特征,將計(jì)算出的特征作為步驟一獲取圖像的紋理特征;再提取出步驟一獲取圖像的幾何特征和梯度特征;
步驟四、基于變分貝葉斯混合模型將步驟三得到的圖像特征進(jìn)行降維,得到降維后的特征;
步驟五、將步驟四得到的降維后特征輸入支持向量機(jī)分類器中,得到芯片外觀缺陷類型分類結(jié)果,完成對(duì)芯片外觀缺陷的檢測(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多階數(shù)分?jǐn)?shù)階小波包變換的芯片外觀缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟三的具體過(guò)程為:
分別計(jì)算出階數(shù)p1對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果中每個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣Ci的特征;
其中,Ci為階數(shù)p1對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果中的第i個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣,μ為Ci的均值,σ為Ci的標(biāo)準(zhǔn)差;Ci[m′,n′]為矩陣Ci中第m′行第n′列的元素,M為矩陣Ci的行數(shù),N′為矩陣Ci的列數(shù);
同理,計(jì)算出階數(shù)p2對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果中每個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣的特征、階數(shù)p3對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果中每個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣的特征、階數(shù)p4對(duì)應(yīng)的分?jǐn)?shù)階小波包分解結(jié)果中每個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣的特征和整數(shù)階數(shù)小波包分解結(jié)果中每個(gè)部分對(duì)應(yīng)的矩陣的特征;
將上述計(jì)算出的特征作為圖像的紋理特征;再提取出圖像的幾何特征和梯度特征。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于多階數(shù)分?jǐn)?shù)階小波包變換的芯片外觀缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述階數(shù)p1的取值為0.2,階數(shù)p2的取值為0.4,階數(shù)p3的取值為0.6,階數(shù)p4的取值為0.8。
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