[發(fā)明專利]攝像頭用高透保護膜在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010120474.5 | 申請日： | 2020-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN111300936A | 公開（公告）日： | 2020-06-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 金闖;張慶杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇斯迪克新材料科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/08 | 分類號： | B32B27/08;B32B27/36;B32B27/20;B32B27/30;B32B33/00;C08J5/18;C08L67/02;C08L23/06;C08L27/18;C08K5/09;C08K5/098;B32B7/022;B32B7/023;B32B7/025 |
| 代理公司： | 北京遠大卓悅知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 張川 |
| 地址： | 215400 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 攝像頭 用高透 保護膜 | ||
1.一種攝像頭用高透保護膜，其特征在于，包括依次層疊設(shè)置的第一保護膜層、第一LR低折層、第一HR高折層、第一抗靜電HC硬化層、光學(xué)基材層、第二抗靜電HC硬化層、第二HR高折層、第二LR低折層和第二保護膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一LR低折層和第二LR低折層的折射率均為1.3-1.55。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一HR高折層和第二HR高折層的折射率均為1.6-1.9。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一LR低折層和第二LR低折層的折射率均為1.38，所述第一HR高折層和第二HR高折層的折射率均為1.65。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一保護膜層和第二保護膜層的厚度均為25-100μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一LR低折層、第二LR低折層、第一HR高折層和第二HR高折層的厚度均為50-150μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一抗靜電HC硬化層和第二抗靜電HC硬化層的厚度均為1-25μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述光學(xué)基材層的厚度為50-125μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述第一保護膜層、第一LR低折層、第一HR高折層、第一抗靜電HC硬化層、光學(xué)基材層、第二抗靜電HC硬化層、第二HR高折層、第二LR低折層和第二保護膜層的厚度分別為：50μm、100μm、100μm、5μm、100μm、5μm、100μm、100μm、50μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭用高透保護膜，其特征在于，所述光學(xué)基材層為高透PET膜層，所述高透PET膜層的原料按重量份計包括：
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