[發明專利]一種深度相機的溫度補償方法及裝置在審
| 申請號: | 202010119894.1 | 申請日: | 2020-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN111353963A | 公開(公告)日: | 2020-06-30 |
| 發明(設計)人: | 余沖;李驪 | 申請(專利權)人: | 北京華捷艾米科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/40 | 分類號: | G06T5/40;G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 林哲生 |
| 地址: | 100193 北京市海淀區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 深度 相機 溫度 補償 方法 裝置 | ||
1.一種深度相機的溫度補償方法,其特征在于,包括:
獲取深度相機光學模組的工作溫度;
調用預先構建的溫度補償模型,獲取所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數,所述溫度補償模型包括采樣溫度集合中每個采樣溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數;
基于所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數,計算所述工作溫度對應圖像不同區域的像素點坐標偏移量;
根據參考溫度對應的光斑圖和所述工作溫度對應的圖像不同區域的像素點坐標偏移量,采用雙線性插值法得到所述工作溫度對應的光斑圖。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述溫度補償模型的構建方法包括:
在預設模組工作溫度區間內,依據預設溫度采集間隔,采集每個采樣溫度對應的光斑圖;
采用限制對比度的自適應直方圖均衡化算法,對每個所述采樣溫度對應的光斑圖進行預處理;
分別以預處理后每個所述采樣溫度下的光斑圖作為匹配算法的輸入圖像,以所述參考溫度對應的光斑圖為匹配算法的參考圖進行匹配計算,得到每個所述采樣溫度對應的最佳匹配像素對;
根據每個所述采樣溫度對應的最佳匹配像素對,計算每個所述采樣溫度對應的像素點坐標偏移量;
基于每個所述采樣溫度對應的像素點坐標偏移量,構建圖像不同區域的變形函數,并計算每個所述采樣溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述采用限制對比度的自適應直方圖均衡化算法,對每個所述采樣溫度對應的光斑圖進行預處理,包括:
分別將每個所述采樣溫度對應的光斑圖劃分為多個不重疊的光斑圖區域;
分別對每個光斑圖區域進行直方圖均衡化處理;
將直方圖均衡化處理后的光斑圖區域中超過閾值的bin裁剪掉,并將裁剪掉的bin平均分布到該光斑圖區域中的其他bin中,反復迭代,直到所有的光斑圖區域中的每個bin都不超過閾值。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述調用預先構建的溫度補償模型,獲取所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數,包括:
判斷所述工作溫度是否在所述溫度補償模型的采樣溫度集合中;
若所述工作溫度在所述采樣溫度集合中時,獲取所述溫度補償模型中所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數;
若所述工作溫度不在所述采樣溫度集合中時,確定所述采樣溫度集合中的所述工作溫度的鄰近溫度,并根據所述溫度補償模型中所述鄰近溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數確定所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據所述鄰近溫度的圖像不同區域的變形函數的回歸系數確定所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數,包括:
計算所述工作溫度與所述鄰近溫度之間差值的絕對值;
判斷所述絕對值是否大于模型所設的溫度閾值;
若不大于溫度閾值,將所述溫度補償模型中所述鄰近溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數確定為所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數;
若大于溫度閾值,確定所述采樣溫度集合中大于所述工作溫度的第一鄰近溫度和小于所述工作溫度的第二鄰近溫度;
采用線性插值法,分別對所述第一鄰近溫度和所述第二鄰近溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數進行插值,得到所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,在所述絕對值大于溫度閾值時,在所述得到所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數之后,所述方法還包括:
將所述工作溫度對應的圖像不同區域的變形函數的回歸系數存儲在所述溫度補償模型中。
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