[發明專利]連續激光加載下液晶波片相位特性的測量裝置和方法

有效

• 申請號: 202010119030.X
• 申請日: 2020-02-26
• 公開（公告）號: CN111289225B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: 劉曉鳳;汪小雙;李大偉;趙元安;胡國行;朱美萍;邵建達
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.利用連續激光加載下液晶波片相位調制特性變化的測量裝置對液晶波片相位調制特性變化的測量方法，所述的連續激光加載下液晶波片相位調制特性變化的測量裝置，由探測激光器(101)、第一反射鏡(102)、平面玻璃分光板(103)、連續激光器(106)、第二反射鏡(107)、待測液晶波片(108)、等腰三角楔形板(109)、光束質量分析儀(110)和計算機(111)組成；沿所述的探測激光器(101)的輸出光方向放置所述的第一反射鏡(102)，所述的平面玻璃分光板(103)放置于所述的第一反射鏡(102)的反射光方向，所述的反射光經過所述的平面玻璃分光板(103)的前表面和后表面反射后被分成傳輸方向平行的第一光束(104)和第二光束(105)，在所述的第一光束(104)和第二光束(105)的傳輸方向依次放置所述的等腰三角楔形板(109)和所述的光束質量分析儀(110)，所述的等腰三角楔形板(109)的頂角與所述的第一光束(104)和第二光束(105)的傳輸方向相對，所述的光束質量分析儀(110)通過USB口與所述的計算機(111)相連；所述的待測液晶波片(108)放置在所述的等腰三角楔形板(109)之前的第一光束(104)的傳輸路徑中，所述的連續激光器(106)輸出的激光經第二反射鏡(107)反射后入射到所述的待測液晶波片(108)；其特征在于該方法包括下列步驟：

1)打開探測激光器(101)，將所述的待測液晶波片(108)放置在所述的等腰三角楔形板(109)之前的第一光束(104)的傳輸路徑中，左右移動所述的等腰三角楔形板(109)，使所述的第一光束(104)和第二光束(105)平行且對稱地入射到所述的等腰三角楔形板(109)的兩個側腰上；

2)沿所述的等腰三角楔形板(109)對稱軸方向移動所述的光束質量分析儀(110)，直到所述的計算機(111)采集到干涉圖為止，此時光束質量分析儀(110)所在位置即為第一光束(104)和第二光束(105)空間相遇的位置；

3)所述的計算機(111)記錄采集干涉圖，并提取干涉圖縱向中心位置像素強度值隨水平橫向像素位置的變化數據，獲得干涉條紋周期寬度Λ；

4)打開所述的連續激光器(106)，調整第二反射鏡(107)的傾斜及俯仰角度，使所述的連續激光器(106)輸出的激光在所述的待測液晶波片(108)的輻照位置與第一光束(104)的輻照區域重合；

5)所述的計算機(111)記錄采集到的干涉圖，并提取干涉圖縱向中心位置像素強度值隨水平橫向像素位置的變化數據；

6)將5)中獲取的數據和3)獲取的數據進行對比，獲得條紋移動量Δ；

7)在連續激光加載下，所述的待測液晶波片(108)的相位變化Δφ按下列公式計算：Δφ＝2π(Δ/Λ)。