[發明專利]一種指紋識別方法及電子設備

在審

• 申請號: 202010117627.0
• 申請日: 2020-02-25
• 公開（公告）號: CN111325163A
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 吳華平
• 申請（專利權）人: 維沃移動通信有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G06F21/32
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

本發明提供了一種指紋識別方法及電子設備，所述方法包括：獲取環境光強度值；根據環境光強度值，得到指紋模組的調整參數；在用戶的手指與指紋模組的距離小于或者等于第一預設距離的情況下，基于調整參數調整指紋模組的配置參數，能夠實現環境光強度值，確定指紋模組的調整參數，從而調整指紋模組的配置參數，以確保戶外強光環境下，指紋成像不至于過曝，提升指紋成像質量，進一步提高解鎖速度，提升用戶體驗。

技術領域

本發明涉及電子設備技術領域，特別是涉及一種指紋識別方法及電子設備。

背景技術

隨著電子設備的快速發展，屏下光學指紋成為指紋發展的一個新方向。當前LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)屏下光學方案，主要原理是采用紅外光對手指進行補光，如圖1所示，是鏡頭式LCD屏下光學指紋層疊結構圖，紅外光蓋板(Glass)1對指紋進行補光，指紋反射紅外光信號依次透過蓋板2(Glass)、LCM3、(LCD Module，LCD顯示模組)、背光 4、指紋模組鏡頭5、可見光濾光片之后，到達指紋sensor感應區6，經像素傳感器將紅外光信號轉化為電信號，再由模數轉換器進行數據采集進行形成不同灰階的原始圖像，該圖像經過SPI總線接口傳輸給電子設備使用。

上述指紋識別方法，在戶外強光環境下，太陽光中的紅光以及紅外光對指紋成像有較強的干擾，會導致指紋圖像過曝，影響指紋成像質量，降低指紋識別率，造成需要多次對指紋進行識別，降低用戶的使用體驗。

發明內容

本發明實施例提供一種指紋識別方法及電子設別，以解決現有技術中指紋識別正確率低的問題。

為了解決上述技術問題，本發明是這樣實現的：

第一方面，本發明實施例提供了一種指紋識別方法，所述方法包括：獲取環境光強度值；根據所述環境光強度值，得到指紋模組的調整參數；在用戶的手指與所述指紋模組的距離小于或者等于第一預設距離的情況下，基于所述調整參數調整所述指紋模組的配置參數。

第二方面，本發明實施例還提供了一種電子設備，所述電子設備包括：獲取模塊，用于獲取環境光強度值；確定模塊，用于根據所述環境光強度值，得到指紋模組的調整參數；調整模塊，用于在用戶的手指與所述指紋模組的距離小于或者等于第一預設距離的情況下，基于所述調整參數調整所述指紋模組的配置參數。

第三方面，本發明實施例還提供了一種電子設備，包括處理器、存儲器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序，所述計算機程序被所述處理器執行時實現述的指紋識別方法的步驟。

第四方面，本發明實施例還提供了一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質上存儲計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現所述的指紋識別方法的步驟。

在本發明實施例中，通過獲取環境光強度值；根據環境光強度值，得到指紋模組的調整參數；在用戶的手指與指紋模組的距離小于或者等于第一預設距離的情況下，基于調整參數調整指紋模組的配置參數，能夠實現環境光強度值，確定指紋模組的調整參數，從而調整指紋模組的配置參數，以確保戶外強光環境下，指紋成像不至于過曝，提升指紋成像質量，進一步提高解鎖速度，提升用戶體驗。

附圖說明

圖1是現有技術指紋識別結構圖；

圖2是本發明實施例的一種指紋識別方法的步驟流程圖；

圖3是本發明實施例的又一種指紋識別方法的步驟流程圖；

圖4是本發明實施例的環境光強度值和曝光時間的函數關系圖；

圖5是本發明實施例的環境光強度值和指紋模組的增益值的函數關系圖；

圖6是本發明實施例的環境光強度值、紅外燈電流值以及指紋模組的曝光時間的函數關系圖。