[發(fā)明專利]終端殼體及其制造方法、終端在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010117208.7 | 申請日: | 2020-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN113382568A | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊文哲 | 申請(專利權)人: | 北京小米移動軟件有限公司 |
| 主分類號: | H05K5/00 | 分類號: | H05K5/00;H05K5/02 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11415 | 代理人: | 辛姍姍 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 終端 殼體 及其 制造 方法 | ||
1.一種終端殼體的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
在殼基體上依次形成底色層、遮光層和面色層;
去除所述面色層上預設圖形區(qū)域內(nèi)的所有材料,以及所述遮光層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料;
在剩余的所述面色層和露出的所述底色層上形成透明面漆層,得到目標殼體。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
在所述底色層和所述遮光層之間形成透明底漆層;
所述在剩余的所述面色層和露出的所述底色層上形成透明面漆層,包括:
在剩余的所述面色層和露出的所述透明底漆層上形成所述透明面漆層。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述遮光層為非導電性鍍層;所述去除所述面色層上預設圖形區(qū)域內(nèi)的所有材料,以及去除所述遮光層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料,包括:
采用激光鐳雕方法,雕除所述面色層上預設圖形區(qū)域內(nèi)的所有材料,以及所述遮光層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法,其特征在于,所述采用激光鐳雕方法,雕除所述面色層上預設圖形區(qū)域內(nèi)的所有材料,以及所述遮光層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料,包括:
確定所述面色層的組成材料的第一氣化溫度和所述遮光層的組成材料的第二氣化溫度;
確定所述第一氣化溫度對應的第一激光功率,以及所述第二氣化溫度對應的第二激光功率;
基于所述第一激光功率和所述第二激光功率,確定目標激光功率;
向所述面色層上所述預設圖形區(qū)域內(nèi)發(fā)射激光功率為所述目標激光功率的激光。
5.根據(jù)權利要求4所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一激光功率和所述第二激光功率,確定目標激光功率,包括:
比較所述第一激光功率和所述第二激光功率的大小;
若所述第一激光功率大于或等于所述第二激光功率,則確定所述第一激光功率為所述目標激光功率為;
若所述第一激光功率小于所述第二激光功率,則確定所述第二激光功率為所述目標激光功率。
6.根據(jù)權利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
在所述面色層上形成透明保護層;
所述采用激光鐳雕方法,雕除所述面色層上預設圖形區(qū)域內(nèi)的所有材料,以及所述遮光層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料,包括:
采用所述激光鐳雕方法,雕除所述透明保護層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料、所述面色層上所述預設圖形區(qū)域內(nèi)的所有材料,以及所述遮光層上與所述預設圖形區(qū)域相對的區(qū)域內(nèi)的所有材料。
7.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述底色層為透明底色層,所述方法還包括:
在所述殼基體和所述底色層之間形成金屬漆層。
8.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述底色層的組成材料包括:樹脂、顏料、溶劑、助劑和金屬漆。
9.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述底色層的組成材料包括:樹脂、顏料、溶劑和助劑,所述助劑包括:附著力處理劑。
10.一種終端殼體,其特征在于,所述終端殼體通過權利要求1-9中任一項所述的方法制造得到。
11.一種終端,其特征在于,包括權利要求10所述的終端殼體。
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