[發(fā)明專利]感光性樹脂組合物及玻璃基板的蝕刻方法

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• 申請日: 2020-02-25
• 公開（公告）號: CN111624852A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發(fā)明（設計）人: 植松照博
• 申請（專利權）人: 東京應化工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;C03C15/00
• 代理公司: 上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291
• 代理人: 陳亦歐;毛立群

1.一種感光性樹脂組合物，其特征在于，包含：

樹脂成分(A)，具有酸解離性溶解抑制基團且因酸的作用使堿可溶性增大；產酸劑(B)，通過放射線的照射而產生酸；填料(C)；增塑劑(D)，

或者包含：

樹脂成分(A1)，具有酚羥基；保護劑(A2)，通過與所述酚羥基反應而賦予酸解離性溶解抑制基團；所述產酸劑(B)；所述填料(C)；所述增塑劑(D)，

所述樹脂成分(A)為通過所述酸解離性溶解抑制基團保護了酚羥基的至少一部分的酚醛清漆樹脂或聚羥基苯乙烯樹脂，

所述樹脂成分(A1)為可以通過所述酸解離性溶解抑制基團保護酚羥基的至少一部分的酚醛清漆樹脂或聚羥基苯乙烯樹脂。

2.如權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其特征在于，

用于在玻璃基板上形成蝕刻掩模。

3.如權利要求1或2所述的感光性樹脂組合物，其特征在于，

在所述感光性樹脂組合物包含所述樹脂成分(A)、所述產酸劑(B)、所述填料(C)與所述增塑劑(D)的情況下，所述樹脂成分(A)包含所述酚醛清漆樹脂或聚羥基苯乙烯樹脂與以式(I)表示的化合物的反應物，

在所述感光性樹脂組合物包含所述樹脂成分(A1)、所述保護劑(A2)、所述產酸劑(B)、所述填料(C)與所述增塑劑(D)的情況下，所述保護劑(A2)包含以式(I)表示的化合物，

所述式(I)以下式表示：

H₂C＝CH-O-A^a1-O-CH＝CH₂ ···(I)

在所述式(I)中，A^a1為可具有取代基也可在主鏈含有醚鍵的碳原子數為1以上10以下的亞烷基，或者為以下述式(Ⅱ)表示的基團，

-(A^a2)_na-A^a3-(A^a2)_na- ···(II)

在所述式(Ⅱ)中，A^a2為可具有取代基的碳原子數為1以上10以下的亞烷基，A^a3為亞環(huán)己基，na為0或1。

4.如權利要求1或2所述的感光性樹脂組合物，其特征在于，

所述增塑劑(D)包含聚乙烯基烷基醚。

5.如權利要求1～4的任一項所述的感光性樹脂組合物，其特征在于，

包含溶劑(S)，所述溶劑(S)包含在大氣壓下的沸點為170℃以上的高沸點溶劑(S1)。

6.一種玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于，包括：

涂布膜形成工序，將權利要求1～5的任一項所述的所述感光性樹脂組合物涂布在玻璃基板的至少一個主面，在所述玻璃基板的主面上形成涂布膜；

曝光工序，對所述涂布膜位置選擇性地曝光；

蝕刻掩模形成工序，將曝光后的所述涂布膜通過顯影液顯影，形成蝕刻掩模；

蝕刻工序，對具備所述蝕刻掩模的所述玻璃基板實施蝕刻加工；

去除工序，去除蝕刻掩模。

7.如權利要求6所述的玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于，

所述蝕刻加工是形成在厚度方向上貫通所述玻璃基板的孔的開孔加工。

8.如權利要求6或7所述的玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于，

在所述玻璃基板的兩個主面形成所述蝕刻掩模，

對所述玻璃基板的兩個主面實施所述蝕刻加工。

9.如權利要求1～5的任一項所述的感光性樹脂組合物的用途，用于在玻璃基板上形成蝕刻掩模。