[發明專利]利用逆卷積提高光譜儀系統分辨率的方法有效
| 申請號: | 202010115700.0 | 申請日: | 2020-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN111272280B | 公開(公告)日: | 2020-12-15 |
| 發明(設計)人: | 毛京京;朱偉明;歐中華;李劍峰;劉永 | 申請(專利權)人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | G01J3/28 | 分類號: | G01J3/28;G01J3/04 |
| 代理公司: | 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 陳選中 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 卷積 提高 光譜儀 系統 分辨率 方法 | ||
1.一種利用逆卷積提高光譜儀系統分辨率的方法,其特征在于,包括:
S1、選擇入口狹縫寬度可調的光譜儀系統;
S2、調節光譜儀系統的入口狹縫寬度;
S3、根據光譜儀系統參數計算或實際測量得到當前入口狹縫寬度下單波長成像寬度所占像素個數p;
S4、保持入口狹縫寬度不變,將寬譜光入射至光譜儀系統的入口狹縫,通過該光譜儀系統測量得到單波長成像寬度占據p個像素時的低分辨率光譜數據;
重復步驟S2~S4,直至得到N組不同的低分辨率光譜數據,其中每次調節得到的入口狹縫寬度均不同;
將不同的低分辨率光譜數據組合,通過逆卷積得到高分辨率光譜數據;
在進行逆卷積時,將各入口狹縫寬度下單波長成像寬度所占像素個數p作為卷積窗口寬度,各低分辨率光譜數據所對應的光譜儀系統的探測器的量子效率作為卷積核系數。
2.根據權利要求1所述利用逆卷積提高光譜儀系統分辨率的方法,其特征在于,所述步驟S4中的寬譜光強度在入口狹縫分布均勻。
3.根據權利要求1所述利用逆卷積提高光譜儀系統分辨率的方法,其特征在于,低分辨率光譜數據的組數N≥2。
4.根據權利要求1所述利用逆卷積提高光譜儀系統分辨率的方法,其特征在于,逆卷積得到的高分辨率光譜數據等效為1個像素寬度的光譜分辨率數據。
5.如權利要求1所述利用逆卷積提高光譜儀系統分辨率的方法,其特征在于,各入口狹縫寬度下單波長成像寬度所占像素個數p>1。
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