[發明專利]光調制裝置、光學模塊和投影儀有效
| 申請號: | 202010114578.5 | 申請日: | 2020-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN111624802B | 公開(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發明(設計)人: | 增田智春;安田政紀;中崎滉平 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/139;G03B21/00;G03B21/20;H04N9/31 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李慶澤;鄧毅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調制 裝置 光學 模塊 投影儀 | ||
光調制裝置、光學模塊和投影儀。減少重影或漏光。本發明的光調制裝置具有:光調制元件,其對光進行調制;第1偏振元件,從光調制元件射出的光入射到該第1偏振元件;以及第2偏振元件,從第1偏振元件射出的光入射到該第2偏振元件,第1偏振元件具備:具有第1面和第2面的第1基材;設置于第1面的第1無機偏振層;以及隔著第1無機偏振層與第1基材對置設置的第1光吸收層,第2偏振元件具備:具有第3面和第4面的第2基材;設置于第3面的第2無機偏振層;以及隔著第2無機偏振層與第2基材對置設置的第2光吸收層,第1偏振元件配置成第1光吸收層與光調制元件的光射出面對置,第2偏振元件配置成第2基材的第4面與第1基材的第2面對置。
技術領域
本發明涉及光調制裝置、光學模塊和投影儀。
背景技術
在構成投影儀的光調制裝置中,以提高投射圖像的對比度為目的,提出了如下方案:利用2個偏振板構成光射出側的偏振板,以提高液晶面板的光射出側的偏振板的消光比。
例如在下述專利文獻1中公開了如下結構的投影儀:在液晶面板的光射出側,從液晶面板側起依次配置有無機偏振板和有機偏振板。在專利文獻1中記載了,在使用無機偏振板和有機偏振板的情況下,一般的有機偏振板兼具有高的消光比和高的光透過性,因此,偏振板整體得到高的消光比和高的光透過性。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2009-3106號公報
發明內容
但是,如專利文獻1的投影儀那樣,在光射出側偏振板的一部分采用有機偏振板的情況下,與無機偏振板相比,有機偏振板的由光引起的劣化較大,因此,存在投影儀的可靠性降低這樣的問題。與此相對,在采用無機偏振板的情況下,可靠性得到改善,但是,無機偏振層中的反射率較高,因此,容易在無機偏振板與后級的顏色合成棱鏡或投射光學系統之間產生雜散光或返回光,存在由于這些光而產生重影或漏光這樣的問題。
為了解決上述課題,本發明的一個方式的光調制裝置具有:光調制元件,其對光進行調制;第1偏振元件,從所述光調制元件射出的光入射到該第1偏振元件;以及第2偏振元件,從所述第1偏振元件射出的光入射到該第2偏振元件,所述第1偏振元件具備:具有第1面和第2面的第1基材;設置于所述第1面的第1無機偏振層;以及隔著所述第1無機偏振層與所述第1基材對置設置的第1光吸收層,所述第2偏振元件具備:具有第3面和第4面的第2基材;設置于所述第3面的第2無機偏振層;以及隔著所述第2無機偏振層與所述第2基材對置設置的第2光吸收層,所述第1偏振元件配置成所述第1光吸收層與所述光調制元件的光射出面對置,所述第2偏振元件配置成所述第2基材的所述第4面與所述第1基材的所述第2面對置。
在本發明的一個方式的光調制裝置中,也可以是,所述第1無機偏振層由線柵型偏振層構成。
在本發明的一個方式的光調制裝置中,也可以是,所述第2無機偏振層由線柵型偏振層構成。
在本發明的一個方式的光調制裝置中,也可以是,所述第1基材和所述第2基材中的至少一方由低熱膨脹性玻璃構成。
本發明的一個方式的光學模塊具有:第1光調制裝置,其根據圖像信號對第1色光進行調制;第2光調制裝置,其根據圖像信號對第2色光進行調制;第3光調制裝置,其根據圖像信號對第3色光進行調制;以及顏色合成元件,其對由所述第1光調制裝置調制后的所述第1色光、由所述第2光調制裝置調制后的所述第2色光和由所述第3光調制裝置調制后的所述第3色光進行合成,生成合成光,所述第1光調制裝置、所述第2光調制裝置和所述第3光調制裝置中的至少一方是本發明的一個方式的光調制裝置。
本發明的一個方式的投影儀具有:光源裝置,其射出光;本發明的一個方式的光學模塊,從所述光源裝置射出的所述光入射到該光學模塊,該光學模塊射出所述合成光;以及投射光學裝置,其將從所述光學模塊射出的所述合成光投射到被投射面上。
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