[發(fā)明專利]足底壓力圖像相似度評價方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010112014.8
• 申請日: 2020-02-24
• 公開（公告）號: CN111402202B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發(fā)明（設計）人: 王年;樊旭晨;唐俊;張艷;朱明;鮑文霞;吳洛天;王鵬鵬
• 申請（專利權）人: 安徽大學
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/11;G06T7/136;G06T5/00;G06V10/74
• 代理公司: 合肥東信智谷知識產權代理事務所(普通合伙) 34143
• 代理人: 劉寒冰

本發(fā)明涉及圖像處理技術領域，公開了一種足底壓力圖像相似度評價方法，包括以下步驟：足跡校準：對采集到的足底壓力數(shù)據(jù)進行去噪，并統(tǒng)一足跡圖像中足跡的傾角，完成校準操作；判斷外部相似度：對經(jīng)過校準的足跡圖像進行等效矩形算法，得到像素級別的足長與足寬，并轉化為真實的足長與足寬，比較得出外部相似度；判斷內部相似度：對每個區(qū)域的壓力塊進行壓力增強，分別在每個區(qū)域建立極坐標系，將壓力塊轉化為點集形式，基于匹配相似度算法，根據(jù)壓力的點集信息對內部相似度進行評價。本發(fā)明通過上述步驟能夠準確判斷不同足底壓力圖像之間的相似度，反饋足底每個區(qū)域壓力分布的差異性，可用于刑偵判斷，有效提高刑偵效率。

技術領域

本發(fā)明涉及圖像處理技術領域，尤其涉及一種足底壓力圖像相似度評價方法。

背景技術

足跡圖像受足部骨骼、后天生活習慣等影響具有唯一性和獨特性，并且相對于指紋痕跡等其他痕跡來說更加不容易偽裝。除了純粹的科研意義，在商業(yè)和執(zhí)法中也有著諸多應用，如監(jiān)管、安全、刑偵領域等。

現(xiàn)有技術中，如何對比不同足跡的相似度是足跡領域的難點之一，傳統(tǒng)算法僅僅對油墨，光學等不包含壓力信息的足跡數(shù)據(jù)進行外緣輪廓的大致評價，針對包含壓力信息的足跡數(shù)據(jù)，沒有成型的算法，因此無法得到更加準確、可靠的相似度判斷。

發(fā)明內容

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種能夠準確比較、判斷多幅足底壓力圖像之間相似度的評價方法。

本發(fā)明通過以下技術手段實現(xiàn)解決上述技術問題的：一種足底壓力圖像相似度評價方法，包括以下步驟：

S1、足跡校準：對采集到的足底壓力數(shù)據(jù)進行去噪，并統(tǒng)一足跡圖像中足跡的傾角，完成校準操作；

S2、判斷外部相似度：對經(jīng)過校準的足跡圖像進行等效矩形算法，得到像素級別的足長與足寬，再將像素級別的足長與足寬轉化為真實的足長與足寬，計算出外部相似度；

S3、判斷內部相似度：對經(jīng)過校準的足跡圖像進行等效矩形算法，使用自適應閾值劃分的方式提取足底壓力數(shù)據(jù)中的壓力塊，對每個區(qū)域的壓力塊進行壓力增強，并分別在每個區(qū)域建立極坐標系，將壓力塊轉化為點集形式，基于匹配相似度算法，根據(jù)壓力的點集信息對內部相似度進行評價。

本發(fā)明的優(yōu)點在于：足跡校準步驟在一定程度上去除圖像上的噪聲，能夠自動檢測旋轉角度，統(tǒng)一足底壓力圖像的傾角；外部相似度評價步驟能夠準確提取腳印的足長與足寬，根據(jù)足跡學知識精確的評價外形相似度；內部相似度評價步驟不僅能評價足底壓力數(shù)據(jù)之間的壓力分布差異，還能反饋出足底不同區(qū)域的壓力分布差異，且總體評價時間短，效率高。

附圖說明

圖1為足底壓力數(shù)據(jù)相似度評價流程圖。

圖2為足跡分區(qū)示意圖。

圖3為等效矩形示意圖。

圖4為矩形框區(qū)域放縮示意圖。

圖5為旋轉效果示意圖。

圖6為分區(qū)效果圖。

圖7為壓力提取圖。

圖8為壓力增強圖。

圖9為信息轉換效果圖。

圖10為極經(jīng)歸一化原理圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。