[發明專利]間位芳綸/聚砜酰胺/二氧化硅復合空氣過濾膜及其制備方法在審
| 申請號: | 202010111735.7 | 申請日: | 2020-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN111249927A | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發明(設計)人: | 辛斌杰;田旭;周曦;高偉洪;劉巖;鄭元生;許晉豪;于佳 | 申請(專利權)人: | 上海工程技術大學 |
| 主分類號: | B01D71/76 | 分類號: | B01D71/76;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00;B01D46/54 |
| 代理公司: | 上海伯瑞杰知識產權代理有限公司 31227 | 代理人: | 胡永宏 |
| 地址: | 201620 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 間位 聚砜酰胺 二氧化硅 復合 空氣 濾膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種間位芳綸/聚砜酰胺/二氧化硅復合空氣過濾膜的制備方法,其特征在于:其包括如下步驟:
(1)、使用N,N-二甲基乙酰胺/氯化鋰混合溶劑體系對間位芳綸溶液進行稀釋,攪拌得到稀釋后的間位芳綸溶液,并進行超聲消泡處理;
(2)、將消泡處理后的間位芳綸溶液和聚砜酰胺溶液攪拌混合,得到間位芳綸/聚砜酰胺混合溶液,并進行超聲消泡處理;
(3)、在消泡處理后的間位芳綸/聚砜酰胺混合溶液內添加二氧化硅顆粒,攪拌得到間位芳綸/聚砜酰胺/二氧化硅混合溶液,并進行超聲消泡處理;
(4)、將消泡處理后的間位芳綸/聚砜酰胺/二氧化硅混合溶液使用靜電紡絲工藝得到間位芳綸/聚砜酰胺/二氧化硅復合空氣過濾膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,N,N-二甲基乙酰胺/氯化鋰混合溶劑體系中N,N-二甲基乙酰胺和氯化鋰的質量比為0.03:1-0.08:1,N,N-二甲基乙酰胺/氯化鋰混合溶劑體系的攪拌時間為1-2h。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述間位芳綸溶液的濃度為20-25wt%;所述攪拌的時間為2-3h;所述超聲消泡的時間為3-4h。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述稀釋后的間位芳綸溶液的濃度為6-16wt%。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,所述聚砜酰胺溶液的濃度為6-16wt%。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,所述間位芳綸/聚砜酰胺混合溶液中間位芳綸和聚砜酰胺的質量比為0.4:1-3.0:1。
7.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(2)中,所述攪拌的時間為3-4h;所述超聲消泡的時間為3-4h。
8.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(3)中,二氧化硅的添加量為0.5-1.5wt%,二氧化硅的粒徑為5-40nm;和/或,
步驟(3)中,所述攪拌的時間為3-4h;所述超聲消泡的時間為3-4h。
9.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(4)中,所述靜電紡絲工藝中靜電紡絲的電壓為25-30kV,溶液推進速率為0.003-0.008mm/s,紡絲的距離為15±1cm,接收器轉速為35-40r/min;和/或,
步驟(4)中,所述靜電紡絲的環境溫度為25-30℃,環境濕度為35-40%。
10.一種間位芳綸/聚砜酰胺/二氧化硅復合空氣過濾膜,其特征在于:其由權利要求1-9任一項所述的制備方法得到。
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