[發(fā)明專利]玻璃液液位測量方法和測量裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010108851.3
• 申請日: 2020-02-21
• 公開（公告）號: CN111256780A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李青;李赫然;王光祥;穆美強(qiáng);蘇記華;賈禮禮;閆志強(qiáng);徐衛(wèi)峰
• 申請（專利權(quán)）人: 鄭州旭飛光電科技有限公司;東旭光電科技股份有限公司
• 主分類號: G01F23/288
• 分類號: G01F23/288
• 代理公司: 北京英創(chuàng)嘉友知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11447
• 代理人: 劉彥哲

本公開涉及一種玻璃液液位測量方法和測量裝置，該測量方法包括：向充滿玻璃液的熔化爐發(fā)射劑量為S1的電離輻射，接收穿過熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R1；向不含有玻璃液的熔化爐發(fā)射劑量為S2的電離輻射，接收穿過熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R2；當(dāng)測量當(dāng)前熔化爐內(nèi)的玻璃液的液位P時，向熔化爐發(fā)射劑量為S3的電離輻射，接收穿過熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R3；通過公式計算液位P，其中，液位P為當(dāng)前玻璃液的液量占熔化爐充滿玻璃液時的液量的百分比。通過上述技術(shù)方案，本公開提供玻璃液液位測量方法能夠解決采用接觸法測量玻璃液液位時容易影響玻璃板良品率的技術(shù)問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及玻璃基板生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種玻璃液液位測量方法和測量裝置。

背景技術(shù)

在玻璃基板生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域中，玻璃在融化的狀態(tài)下是否穩(wěn)定，一個關(guān)鍵因素就是玻璃液液位的穩(wěn)定性。

目前，傳統(tǒng)的玻璃生產(chǎn)中玻璃液液位測量大多采用接觸法，由于測量工具在工作時需直接接觸玻璃液，一方面，玻璃液容易粘附在測量工具上，影響測量工具的測量準(zhǔn)確度，另一方面，測量工具上的雜質(zhì)容易進(jìn)入玻璃液內(nèi)部，形成玻璃液雜質(zhì)和玻璃板缺陷，影響玻璃板的良品率。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的目的是提供一種玻璃液液位測量方法和測量裝置，以解決采用接觸法測量玻璃液液位時容易影響玻璃板良品率的技術(shù)問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本公開提供一種玻璃液液位測量方法，包括以下步驟：向充滿玻璃液的熔化爐發(fā)射劑量為S₁的電離輻射，接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R₁；向不含有玻璃液的所述熔化爐發(fā)射劑量為S₂的電離輻射，接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R₂；當(dāng)測量當(dāng)前所述熔化爐內(nèi)的玻璃液的液位P時，向所述熔化爐發(fā)射劑量為S₃的電離輻射，接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R₃；通過公式計算所述液位P，其中，所述液位P為當(dāng)前玻璃液的液量占所述熔化爐充滿玻璃液時的液量的百分比。

可選地，所述向充滿玻璃液的熔化爐發(fā)射劑量為S₁的電離輻射，接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R₁的步驟包括：分別向所述熔化爐發(fā)射劑量為S₁₁、S₁₂、S₁₃的電離輻射，分別接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并依次記錄每次接收到的電離輻射的劑量為R₁₁、R₁₂、R₁₃；通過公式計算S₁，通過公式計算R₁。

可選地，所述向不含有玻璃液的所述熔化爐發(fā)射劑量為S2的電離輻射，接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R2的步驟包括：分別向所述熔化爐發(fā)射劑量為S21、S22、S23的電離輻射，分別接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并依次記錄每次接收到的電離輻射的劑量為R21、R22、R23；通過公式計算S2，通過公式計算R2。

可選地，所述當(dāng)測量當(dāng)前所述熔化爐內(nèi)的玻璃液的液位P時，向所述熔化爐發(fā)射劑量為S₃的電離輻射，接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并記錄接收到的電離輻射的劑量為R₃的步驟包括：分別向所述熔化爐發(fā)射劑量為S₃₁、S₃₂、S₃₃的電離輻射，分別接收穿過所述熔化爐的電離輻射，并分別記錄接收到的電離輻射的劑量為R₃₁、R₃₂、R₃₃；通過公式計算S₃，通過公式計算R₃。