[發(fā)明專利]一種基于金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò)的語(yǔ)義分割方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010108637.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111369563B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 史景倫;張宇;傅釬栓;李顯惠;林陽(yáng)城 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué);廣州夢(mèng)輝機(jī)器人有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T7/10 | 分類號(hào): | G06T7/10;G06N3/0464 |
| 代理公司: | 廣州市華學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245 | 代理人: | 蔣劍明 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 金字塔 空洞 卷積 網(wǎng)絡(luò) 語(yǔ)義 分割 方法 | ||
1.一種基于金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò)的語(yǔ)義分割方法,其特征在于,所述的金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò)包括第一殘差遞歸卷積模塊、第二殘差遞歸卷積模塊、池化層、金字塔池化模塊、空洞卷積模塊、反卷積層、第三殘差遞歸卷積模塊、第四殘差遞歸卷積模塊、softmax預(yù)測(cè)層,其結(jié)構(gòu)連接方式為:所述的第一殘差遞歸卷積模塊依次串聯(lián)池化層、第二殘差遞歸卷積模塊、池化層,所述的金字塔池化模塊和空洞卷積模塊并聯(lián)后與前述的池化層串聯(lián),然后依次串聯(lián)反卷積層、第三殘差遞歸卷積模塊、反卷積層、第四殘差遞歸卷積模塊、softmax預(yù)測(cè)層;所述的語(yǔ)義分割方法包括如下步驟:
S1、獲取包含真實(shí)分割結(jié)果的醫(yī)療圖像數(shù)據(jù)集,對(duì)該數(shù)據(jù)集進(jìn)行預(yù)處理操作實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)增強(qiáng);
S2、將預(yù)處理圖像依次通過(guò)第一殘差遞歸卷積模塊、池化層、第二殘差遞歸卷積模塊、池化層,多尺度提取圖像的語(yǔ)義信息,分別得到淺層圖像特征F11、F12、F21、F22;
S3、將圖像特征F22通過(guò)一個(gè)由金字塔池化模塊和空洞卷積模塊并聯(lián)的網(wǎng)絡(luò),其中,將圖像特征F22通過(guò)金字塔池化模塊后得到圖像特征F3,將圖像特征F22通過(guò)空洞卷積模塊后得到圖像特征F4;將圖像特征F3、F4進(jìn)行逐通道的聚合操作,然后再通過(guò)一個(gè)卷積核為1×1的卷積層,得到深層圖像特征F5,從而進(jìn)一步提取深層次的語(yǔ)義信息;
S4、將圖像特征F5通過(guò)一個(gè)反卷積層,然后再與通過(guò)跳躍連接傳遞過(guò)來(lái)的淺層圖像特征F21進(jìn)行逐通道的聚合操作,得到圖像特征F61;再將圖像特征F61通過(guò)第三殘差遞歸卷積模塊,得到圖像特征F62,其中,所述的跳躍連接是直接將淺層特征傳遞過(guò)來(lái),與通過(guò)反卷積層后的結(jié)果進(jìn)行逐通道的聚合;
S5、將圖像特征F62通過(guò)一個(gè)反卷積層,然后再與通過(guò)跳躍連接傳遞過(guò)來(lái)的淺層圖像特征F11進(jìn)行逐通道的聚合操作,得到圖像特征F71;再將圖像特征F71通過(guò)第四殘差遞歸卷積模塊,得到圖像特征F72;
S6、將圖像特征F72輸入到softmax預(yù)測(cè)層,得到原始輸入圖像中每個(gè)像素所屬的類別;
S7、訓(xùn)練金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò),建立損失函數(shù),通過(guò)訓(xùn)練樣本確定網(wǎng)絡(luò)參數(shù);
S8、將待分割的測(cè)試圖像輸入到訓(xùn)練完成的金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò),得到該圖像的語(yǔ)義分割結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò)的語(yǔ)義分割方法,其特征在于,所述的步驟S1中預(yù)處理操作包括旋轉(zhuǎn)、切片、標(biāo)準(zhǔn)化、自適應(yīng)直方圖均衡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于金字塔空洞卷積網(wǎng)絡(luò)的語(yǔ)義分割方法,其特征在于,所述的第一殘差遞歸卷積模塊、第二殘差遞歸卷積模塊、第三殘差遞歸卷積模塊、第四殘差遞歸卷積模塊結(jié)構(gòu)相同,每個(gè)殘差遞歸卷積模塊都是先將輸入通過(guò)兩個(gè)串聯(lián)的遞歸卷積層,然后再與輸入以殘差方式相加得到輸出;所述的遞歸卷積層的結(jié)構(gòu)連接依次為conv、ReLU、Add、conv、ReLU、Add、conv、ReLU,其中conv是一個(gè)卷積核為3×3的卷積層,Add為與輸入進(jìn)行逐像素相加;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華南理工大學(xué);廣州夢(mèng)輝機(jī)器人有限公司,未經(jīng)華南理工大學(xué);廣州夢(mèng)輝機(jī)器人有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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