[發(fā)明專利]基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+ 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010108515.9 | 申請日: | 2020-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN111537476B | 公開(公告)日: | 2023-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉夢琴;譚宇星;蔣伍玖;李俊華;尹紫鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 衡陽師范學(xué)院 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;C09K11/06 |
| 代理公司: | 廣州幫專高智知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44674 | 代理人: | 胡洋 |
| 地址: | 421000 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 甲基 丁基 羥基 萘酰腙 熒光 探針 ni base sup | ||
1.基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,以N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙作為熒光探針,采用熒光猝滅法測定Ni2+的含量;
采用熒光猝滅法測定Ni2+的含量的具體方法為:
(1)在20~25℃下,向9~10mL有機溶劑中加入200~400 μ L pH=10~11的堿溶液,振蕩搖勻后再依次加入40~60μL2×10-3mol/L的N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙和40~60μL超純水,調(diào)節(jié)體系的pH至8.5,2~5min后測其熒光強度F0;
(2)在20~25℃下,向9~10mL有機溶劑中加入200~400 μ L pH=10~11的堿溶液,振蕩搖勻后再依次加入40~60μL2×10-3mol/L的N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙和40~60μL含不同Ni2+濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液,調(diào)節(jié)體系的pH至8.5,2~5min后測其熒光強度F;
(3)計算△F=F0-F,得出△F與Ni2+濃度的線性方程;
(4)參照步驟(1)和(2)的方法測定待測樣品溶液的△F;根據(jù)△F與Ni2+濃度的線性方程得出待測樣品溶液中Ni2+濃度;
步驟(1)和(2)中的有機溶劑為DMF。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,步驟(1)和(2)中的堿溶液為NaOH水溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,
步驟(1)在20~25℃下,向9.6mL有機溶劑中加入300 μ L pH=10.5的堿溶液,振蕩搖勻后再依次加入50μL2×10-3mol/L的N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙和50μL超純水,2min后測其熒光強度F0。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,
步驟(2)在20~25℃下,向9.6mL有機溶劑中加入300 μ L pH=10.5的堿溶液,振蕩搖勻后再依次加入50μL2×10-3mol/L的N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙和50μL含不同Ni2+濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液,2~5min后測其熒光強度F。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,步驟(2)中所述的含不同Ni2+濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液,是指0.08μmoL/L、0.1μmoL/L、0.2μmoL/L、0.4μmoL/L、0.6μmoL/L、0.8μmoL/L、1μmoL/L、2μmoL/L的Ni(NO3)2溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,步驟(3)中△F與Ni2+濃度的線性方程為ΔF=192.6756c+0.49255;其中,線性方程中c為Ni2+的濃度,單位為μmoL/L;線性相關(guān)系數(shù)是r=0.99854,檢測限為6×10-8mol/L。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于N’-(1,3二甲基亞丁基)-3-羥基-萘酰腙熒光探針的Ni2+的測定方法,其特征在于,熒光猝滅法中調(diào)節(jié)激發(fā)和發(fā)射狹縫分別為3nm和5nm,以Ex=300nm掃描發(fā)射光譜,記錄Em=503nm處的熒光強度F0和F值。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





