[發明專利]測量裝置、光刻系統、曝光裝置、測量方法、曝光方法以及元件制造方法

有效

• 申請號: 202010107493.4
• 申請日: 2016-02-23
• 公開（公告）號: CN111290221B
• 公開（公告）日: 2023-07-28
• 發明（設計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G01B11/00;G01D5/347
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王天堯;湯在彥

1.一種測量裝置，測量形成在基板的多個標記的位置信息，其特征在于，包括：

載臺，保持所述基板且能夠移動；

位置測量系統，能夠取得所述載臺的位置信息；

第1檢測系統，檢測形成在所述基板的標記；以及

控制裝置，根據所述第1檢測系統的檢測結果與利用所述位置測量系統獲得的所述載臺的位置信息，求出所述多個標記各自的位置信息；

求出所述多個標記各自的位置信息的動作，包含分別求出各自形成于所述基板上的不同層的標記的、在沿著所述基板的表面的第1方向的位置信息、以及在與所述第1方向正交的第2方向的位置信息的動作；

所述控制裝置根據所述多個標記的所述位置信息，求出所述基板上的不同層的所述第1方向的重迭誤差與所述第2方向的重迭誤差，且判斷所述第1方向的重迭誤差是因所述不同層的曝光的哪一個為主而產生，并判斷所述第2方向的重迭誤差是因所述不同層的曝光的哪一個為主而產生。

2.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述位置測量系統能夠測量包含所述載臺的所述位置信息的至少3自由度方向的位置信息。

3.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于，

所述位置測量系統包括具有格子部的測量面與將光束照射至所述測量面的讀頭部；

所述格子部與所述讀頭部的一方設于所述載臺，將來自所述讀頭部的光束照射至所述測量面，并且能夠接收該光束的來自所述測量面的返回光束而取得所述載臺的位置信息。

4.根據權利要求3所述的測量裝置，其特征在于，所述測量裝置更包括：

基座構件，在6自由度方向能夠移動地支撐所述載臺且設置有所述讀頭部，所述6自由度方向包含在既定平面內相互正交的第1方向、第2方向及與所述既定平面垂直的第3方向；以及

相對位置測量系統，測量所述第1檢測系統和所述基座構件的與所述6自由度方向相關的相對位置信息；

所述控制裝置根據由所述相對位置測量系統產生的測量信息與由所述位置測量系統產生的測量信息，控制所述載臺的移動。

5.根據權利要求4所述的測量裝置，其特征在于，所述控制裝置在求出所述多個標記的所述位置信息時，將從由所述相對位置測量系統產生的測量信息得到的所述第1檢測系統與所述基座構件在所述既定平面內的相對位置信息用作為修正量。

6.根據權利要求4所述的測量裝置，其特征在于，所述格子部具有2維格子，該2維格子具有在所述既定平面內相互交叉的第1周期方向及第2周期方向；

來自所述測量面的返回光束，包含來自所述格子部的衍射光束；

所述讀頭部具有第1讀頭、第2讀頭以及至少3個第3讀頭，所述第1讀頭對所述測量面照射第1光束并接收來自所述格子部的第1衍射光束，測量所述載臺在所述第1周期方向的位置信息，所述第2讀頭對所述測量面照射第2光束并接收來自所述格子部的第2衍射光束，測量所述載臺在所述第2周期方向的位置信息，所述至少3個第3讀頭對所述測量面照射第3光束并接收來自所述格子部的光，測量所述載臺的所述第3方向的位置信息。

7.根據權利要求6所述的測量裝置，其特征在于，來自所述第1讀頭的所述第1光束在所述測量面上的照射點和來自所述第2讀頭的所述第2光束在所述測量面上的照射點被設定在位于所述第1檢測系統的檢測區域下方的同一檢測點，來自所述至少3個第3讀頭各自的第3光束在所述測量面上的照射點被設定在所述檢測點的周圍。

8.根據權利要求7所述的測量裝置，其特征在于，所述檢測點位于所述第1檢測系統的檢測中心正下方，所述檢測點與所述檢測中心在所述既定平面內的位置一致。

9.根據權利要求6所述的測量裝置，其特征在于，所述第1周期方向與所述第2周期方向相互正交。

10.根據權利要求9所述的測量裝置，其特征在于，所述第1周期方向與所述第2周期方向中的一方與所述第1方向一致，所述第1周期方向與所述第2周期方向中的另一方與所述第2方向一致。