[發明專利]測量裝置及方法、光刻系統、曝光裝置及方法

在審

• 申請號: 202010107488.3
• 申請日: 2016-02-23
• 公開（公告）號: CN111158220A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G01B11/00;G01D5/347
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王天堯;湯在彥

1.一種測量裝置，在曝光處理前取得形成于基板的標記的位置信息，所述基板被保持在曝光裝置所具備的基板保持具上進行所述曝光處理，其特征在于，包括：

第1檢測系統，檢測形成于所述基板的多個標記；

載臺，在與所述基板保持具不同的保持構件上保持所述基板且能夠移動；

位置測量系統，通過測量面、和將測量光束照射于所述測量面且接收來自所述測量面的光的測量構件，取得所述載臺的位置信息；以及

控制裝置；且

所述位置測量系統具有的所述測量面與所述測量構件的一方，設置于與設有所述保持構件的所述載臺的面相反側的所述載臺的面，所述測量面與所述測量構件的另一方，設置于與所述一方對向的位置；

所述控制裝置根據所述第1檢測系統的檢測結果、與使用所述位置測量系統取得的所述載臺的位置信息，求出所述多個標記各自的位置信息。

2.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于，被照射所述測量光束的所述測量面上的位置、與所述第1檢測系統檢測標記的檢測位置，在與所述載臺移動的移動平面正交的同軸上。

3.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述控制裝置為了在由所述曝光裝置進行的所述基板的曝光處理中進行利用，在所述曝光處理前輸出所述多個標記的位置信息。

4.根據權利要求3所述的測量裝置，其特征在于，所述被輸出的所述多個標記的位置信息，是能夠通過統計運算算出區劃區域的排列信息的位置信息。

5.根據權利要求4所述的測量裝置，其特征在于，所述排列信息包含所述區劃區域的非線性的排列信息。

6.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述測量裝置更包括第2檢測系統，該第2檢測系統檢測所述基板表面的高度；

所述控制裝置根據所述第2檢測系統的檢測結果、與通過所述位置測量系統取得的所述載臺的位置信息，取得所述基板表面的高度分布信息。

7.根據權利要求6所述的測量裝置，其特征在于，所述控制裝置為了在由所述曝光裝置進行的所述基板的曝光處理中進行利用，在所述曝光處理前輸出所述高度分布信息。

8.一種測量裝置，在曝光處理前取得形成于基板的標記的位置信息，所述基板被保持在曝光裝置所具備的基板保持具上進行所述曝光處理，其特征在于，包括：

基板調溫系統，調整所述基板的溫度；

載臺，在與所述基板保持具不同的保持構件上保持以所述基板調溫系統調溫后的所述基板且能夠移動；

位置測量系統，取得所述載臺的位置信息；以及

第1檢測系統，檢測形成在被保持于所述保持構件的所述基板上的多個標記；且

根據所述第1檢測系統的檢測結果、與使用所述位置測量系統而取得的所述載臺的位置信息，求出所述多個標記各自的位置信息。

9.根據權利要求8所述的測量裝置，其特征在于，所述控制裝置為了在由所述曝光裝置進行的所述基板的曝光處理中進行利用，在所述曝光處理前輸出所述多個標記的位置信息。

10.根據權利要求9所述的測量裝置，其特征在于，所述被輸出的所述多個標記的位置信息，是能夠通過統計運算算出區劃區域的排列信息的位置信息。

11.根據權利要求10所述的測量裝置，其特征在于，所述排列信息包含所述區劃區域的非線性的排列信息。

12.根據權利要求8所述的測量裝置，其特征在于，所述測量裝置更包括第2檢測系統，該第2檢測系統檢測所述基板表面的高度；

所述控制裝置根據所述第2檢測系統的檢測結果、與使用所述位置測量系統而取得的所述載臺的位置信息，取得所述基板表面的高度分布信息。