[發(fā)明專利]指紋感測裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010107117.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111291703A | 公開(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭銘媛;王仲益;陳頌華;林郁軒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 神盾股份有限公司;神亞科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06K9/00 | 分類號(hào): | G06K9/00 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 樓高潮 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣臺(tái)北*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 指紋 裝置 | ||
1.一種指紋感測裝置,其特征在于,包括:
玻璃蓋板;
感測層,包括多個(gè)感測單元;
光源層,包括多個(gè)點(diǎn)光源;以及
控制電路,耦接所述感測層以及所述光源層,控制部分的點(diǎn)光源照射使用者的指紋,
其中,所述多個(gè)點(diǎn)光源照射所述使用者的指紋所產(chǎn)生的反射光于所述感測層上形成包括多個(gè)反射光圖案的發(fā)光圖案,其中各所述反射光圖案由對(duì)應(yīng)的一個(gè)點(diǎn)光源提供,且其中,各個(gè)感測單元感測至少兩個(gè)點(diǎn)光源所對(duì)應(yīng)的反射光圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋感測裝置,其特征在于,各所述反射光圖案為具有默認(rèn)半徑的圓形,相鄰兩個(gè)反射光圖案的圓心之間的距離小于兩倍的所述預(yù)設(shè)半徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的指紋感測裝置,其特征在于,對(duì)應(yīng)相鄰的兩個(gè)反射光圖案的點(diǎn)光源之間包括至少一個(gè)未發(fā)光的點(diǎn)光源。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的指紋感測裝置,其特征在于,多個(gè)反射光圖案的圓心形成的封閉區(qū)域內(nèi)包括由此些相鄰的多個(gè)反射光圖案形成的交點(diǎn)或區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的指紋感測裝置,其特征在于,所述感測層配置于所述玻璃蓋板與所述光源層之間,所述預(yù)設(shè)半徑如下式所示:
r=(d1+d2)×tanθ+d2×tanθ
其中r為所述預(yù)設(shè)半徑,d1為所述感測層與所述光源層間的距離,d2為所述感測層與所述玻璃蓋板間的距離,θ為來自點(diǎn)光源的入射光入射所述玻璃蓋板時(shí)的入射角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋感測裝置,其特征在于,還包括:
存儲(chǔ)電路,耦接所述控制電路,存儲(chǔ)所述指紋之特征數(shù)據(jù),所述控制電路比對(duì)所述多個(gè)感測單元的感測結(jié)果與所述特征數(shù)據(jù),以進(jìn)行指紋辨識(shí)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的指紋感測裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)電路還存儲(chǔ)多個(gè)默認(rèn)發(fā)光模式,其中所述多個(gè)默認(rèn)發(fā)光模式對(duì)應(yīng)不同的多個(gè)發(fā)光圖案,所述控制電路于所述用戶執(zhí)行指紋設(shè)定操作時(shí),依據(jù)所述多個(gè)默認(rèn)發(fā)光模式控制部分的點(diǎn)光源照射所述使用者的指紋,并依據(jù)所述多個(gè)感測單元的感測結(jié)果選擇具有最高信噪比的發(fā)光圖案作為所述用戶的特征數(shù)據(jù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋感測裝置,其特征在于,所述光源層為顯示面板,所述多個(gè)點(diǎn)光源為顯示像素。
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