[發(fā)明專利]一種雙“8”字軌跡無碳小車的轉向微調及調距機構有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010106217.6 | 申請日: | 2020-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN111228828B | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蘇亮;張楷锜;修峰翼;張予;鐘萬福 | 申請(專利權)人: | 湘潭大學 |
| 主分類號: | A63H17/26 | 分類號: | A63H17/26;A63H31/08 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 411105 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 軌跡 小車 轉向 微調 機構 | ||
1.一種雙“8”字軌跡無碳小車的轉向微調及調距機構,其特征在于:包括小齒輪(1)、大齒輪(2)、轉向軸(3)、轉向架(4)、固定螺母(5)、彈簧(6)、調節(jié)螺栓(7)、導向輪(8)、轉向滑塊(9)、凸輪(10)、法蘭(11)、頂絲(12)、驅動軸(13);
所述小齒輪(1)固定安裝在驅動軸(13)上,大齒輪(2)固定安裝在轉向軸(3)一端,通過齒輪嚙合實現兩軸間的動力傳遞;
所述凸輪(10)通過螺栓緊固件固定在法蘭(11)上,法蘭(11)通過頂絲(12)固定安裝于轉向軸(3)另一端;所述法蘭(11)的小徑端面作為基準面(11a);
所述轉向架(4)上部為凹槽,所述凹槽的開口朝向基準面(11a);所述凹槽包含相對設置的第一側壁(4a)和第二側壁(4b);所述轉向架(4)下部為輪架(4c);所述導向輪(8)旋裝在轉向架(4)的輪架(4c)處;
所述轉向滑塊(9)和彈簧(6)從第二側壁(4b)向第一側壁(4a)依次放入轉向架(4)的凹槽內;所述轉向滑塊(9)可在凹槽內滑動;所述調節(jié)螺栓(7)從第二側壁(4b)上通孔穿過,與轉向滑塊(9)通過螺紋配合聯結;所述調節(jié)螺栓(7)繼續(xù)穿過彈簧(6)和第一側壁(4a)上通孔,與第一側壁(4a)外的固定螺母(5)螺紋配合,實現調節(jié)螺栓(7)的軸向定位;
所述轉向軸(3)有刻度(3a),量程為4mm,精度為0.5mm;
若需要以300mm障礙物間距行進,擰松頂絲(12),凸輪(10)同法蘭(11)一起沿轉向軸(3)的軸向內側移動,直至基準面(11a)與刻度(3a)上零刻度線對齊,擰緊頂絲(12),可將小車的軌跡調整至300mm間距的避障軌跡;
若需要以400mm障礙物間距行進,擰松頂絲(12),凸輪(10)同法蘭(11)一起沿轉向軸(3)的軸向外側移動,直至基準面(11a)與刻度(3a)上4mm刻度線對齊,擰緊頂絲(12),可將小車的軌跡調整至400mm間距的避障軌跡。
2.根據權利要求1所述的一種雙“8”字軌跡無碳小車的轉向微調及調距機構,其特征在于:所述彈簧(6)始終處于壓縮狀態(tài),保證轉向滑塊(9)靠近第二側壁(4b),且轉向滑塊(9)與調節(jié)螺栓(7)外螺紋緊密接觸,消除螺紋配合的間隙對精度的影響;
結合小車的實際行進偏移情況以及小車變距后的首次行進偏移情況,當小車的整體軌跡呈順時針旋轉偏移,順時針旋轉調節(jié)螺栓(7),將轉向滑塊(9)向第二側壁(4b)移動,便可實現對誤差軌跡的微調;
當小車的整體軌跡呈逆時針旋轉偏移,逆時針旋轉調節(jié)螺栓(7),將轉向滑塊(9)向第一側壁(4a)移動,便可實現對誤差軌跡的微調。
3.根據權利要求1所述的一種雙“8”字軌跡無碳小車的轉向微調及調距機構,其特征在于:
設所述凸輪(10)外端面與轉向架中心線(4d)的距離為B;
設所述凸輪(10)和轉向滑塊(9)的接觸點位移為S;過轉向架中心線(4d)做平面與凸輪(10)外端面垂直,位于平面內的接觸點為S的零點;遠離凸輪(10)基圓的方向,S為正值;反之,S為負值;
由所述調節(jié)螺栓(7)旋轉引起的轉向滑塊(9)將在凹槽內產生滑動,設轉向滑塊(9)的滑動位移為k,其中以沿著調節(jié)螺栓(7)軸線方向由面向第一側壁(4a)的轉向滑塊端面(9a)指向轉向架中心線(4d)方向為正;設轉向滑塊端面(9a)在轉向架中心線(4d)所在的端面時,k為零;
設所述導向輪(8)偏轉角度為φ,導向輪(8)左轉向時,偏轉角度φ為負值;導向輪(8)右轉向時,偏轉角度φ為正值;
所述導向輪(8)偏轉角度φ、凸輪(10)和轉向滑塊(9)的接觸點位移S、凸輪(10)外端面與轉向架中心線(4d)的距離B、以及轉向滑塊(9)的滑動位移k滿足以下關系
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于湘潭大學,未經湘潭大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010106217.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種高耐腐蝕不銹鋼及其制造方法
- 下一篇:啞光窯變釉及其制備方法





