[發明專利]適用于平面電機的非等高二維削角Halbach永磁陣列有效
| 申請號: | 202010105773.1 | 申請日: | 2020-02-19 |
| 公開(公告)號: | CN111404350B | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發明(設計)人: | 張魯;寇寶泉;韋堅;張赫 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | H02K41/03 | 分類號: | H02K41/03;H02K1/06 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 張利明 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 適用于 平面 電機 二維 halbach 永磁 陣列 | ||
1.一種適用于平面電機的非等高二維削角Halbach永磁陣列,其特征在于,包括主永磁體(100)和輔助永磁體(200),
所述主永磁體(100)和輔助永磁體(200)相互連接排布成近似正方形的永磁陣列;其中主永磁體(100)沿正方形的對角線方向等間隔排列,形成沿一個對角線方向的多行及沿另一個對角線方向的多列;主永磁體(100)沿水平方向的截面為正方形;主永磁體(100)的充磁方向垂直于所述正方形,并且相鄰主永磁體(100)的充磁方向相反;
相鄰主永磁體(100)之間設置輔助永磁體(200),并使每個主永磁體(100)的四個側面均連接一個輔助永磁體(200);所述輔助永磁體(200)沿水平方向平行充磁;
對于相鄰主永磁體(100),其中一個主永磁體(100)連接的四個輔助永磁體(200)的充磁方向均指向所述一個主永磁體(100)本身,則另一個主永磁體(100)連接的四個輔助永磁體(200)的充磁方向分別指向與另一個主永磁體(100)相鄰的四個主永磁體(100);
所述主永磁體(100)和輔助永磁體(200)的厚度不同;
所述主永磁體(100)上表面的四個邊均設置倒角;
所述輔助永磁體(200)與主永磁體(100)倒角下邊線的高度相同。
2.根據權利要求1所述的適用于平面電機的非等高二維削角Halbach永磁陣列,其特征在于,
所述永磁陣列用于粘貼固定在平面電機平板型的次級軛板(300)上。
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