[發(fā)明專利]顯示面板以及其制造方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010105278.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111312921A | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈立;高濤;呂祖彬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/52 | 分類號(hào): | H01L51/52;H01L51/00;H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制造 方法 顯示裝置 | ||
本申請(qǐng)公開了一種顯示面板以及其制造方法、顯示裝置。該顯示面板包括:基底,基底上設(shè)置有多個(gè)島區(qū)、橋區(qū)、開孔區(qū),島區(qū)包括像素單元,相鄰的島區(qū)通過(guò)橋區(qū)連接,預(yù)設(shè)位置分布有多個(gè)穿透基底的開孔區(qū);還包括包圍開孔區(qū)的隔離區(qū),隔離區(qū)設(shè)置有凸起的隔離部件,隔離部件通過(guò)對(duì)位于隔離區(qū)的層疊結(jié)構(gòu)進(jìn)行圖案化形成。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開一般涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及顯示面板以及其制造方法、顯示裝置。
背景技術(shù)
在可伸縮顯示領(lǐng)域,現(xiàn)有的隔離柱一般采用PI(Polyimide,聚酰亞胺)隔離柱或者SD(Source and Drain,源漏極)隔離柱。其中PI隔離柱在完成時(shí)很難找到合適的光阻,同時(shí)PI隔離柱只適用于島區(qū)低像素時(shí),當(dāng)島區(qū)的顯示分辨率提高時(shí),橋區(qū)走線變多,空間有限,PI隔離柱占用空間較多,無(wú)法排布;當(dāng)島區(qū)的顯示分辨率提高時(shí),SD隔離柱同樣面臨橋區(qū)走線變多,無(wú)法排布的問(wèn)題,且有頂鈦塌陷和上翹的風(fēng)險(xiǎn),很難起到封裝效果,同時(shí)SD隔離柱通過(guò)濕法刻蝕和陽(yáng)極刻蝕(Anode Etch)同時(shí)完成,有較大的暗點(diǎn)風(fēng)險(xiǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷或不足,期望提供一種高分辨率的顯示面板以及制造該顯示面板的方法、顯示裝置。
第一方面,提供一種顯示面板,顯示面板包括:
基底,基底上設(shè)置有多個(gè)島區(qū)、橋區(qū)、開孔區(qū),島區(qū)包括像素單元,相鄰的島區(qū)通過(guò)橋區(qū)連接,預(yù)設(shè)位置分布有多個(gè)穿透基底的開孔區(qū);
還包括包圍開孔區(qū)的隔離區(qū),隔離區(qū)設(shè)置有凸起的隔離部件,隔離部件通過(guò)對(duì)位于隔離區(qū)的層疊結(jié)構(gòu)進(jìn)行圖案化形成。
在一些實(shí)施例中,基底上依次層疊設(shè)置有絕緣層、電介質(zhì)層、鈍化層、平坦層和源漏極層;
隔離部件位于電介質(zhì)層上,并對(duì)隔離區(qū)的鈍化層、平坦層和源漏極層進(jìn)行圖案化形成。
在一些實(shí)施例中,隔離部件為中間窄兩頭寬的“工”字形。
在一些實(shí)施例中,隔離部件還包括器件層,器件層在源漏極層的上方。
在一些實(shí)施例中,基底采用可拉伸材料制成。
在一些實(shí)施例中,還包括覆蓋像素單元和隔離部件的封裝層。
第二方面、提供一種制造有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法,方法包括:
在玻璃基板上形成基底、絕緣層、電介質(zhì)層和鈍化層,將預(yù)設(shè)隔離區(qū)的鈍化層進(jìn)行圖案化;
鈍化層上形成平坦層,將隔離區(qū)的平坦層進(jìn)行圖案化,該平坦層的圖案與鈍化層的圖案相同;
平臺(tái)層上形成源漏極層,將隔離區(qū)的源漏極層進(jìn)行圖案化,形成依次層疊鈍化層、平坦層和源漏極層的“工”字形隔離部件。
在一些實(shí)施例中,形成依次層疊鈍化層、平坦層和源漏極層的“工”字形隔離部件包括:
針對(duì)隔離區(qū)的源漏極層進(jìn)行圖案化后,將圖案化的源漏極層作為硬掩模,采用干法刻蝕實(shí)現(xiàn)依次層疊鈍化層、平坦層和源漏極層的“工”字形隔離部件。
在一些實(shí)施例中,還包括:
在所述平坦層上形成像素定義層和隔墊物;
在預(yù)設(shè)的開孔區(qū)形成暴露該玻璃基板的開孔;
在基底對(duì)應(yīng)的整個(gè)區(qū)域形成器件層和密封層;
剝離玻璃基板。
第三方面、提供一種顯示裝置,顯示裝置包括本申請(qǐng)各實(shí)施例所提供的顯示面板。
根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例提供的技術(shù)方案,隔離部件通過(guò)對(duì)位于隔離區(qū)的層疊結(jié)構(gòu)進(jìn)行圖案化形成,能夠解決現(xiàn)有的PI隔離柱和SD隔離柱不適用于高分辨率的顯示面板的問(wèn)題,提出了一種新型隔離方案。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
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