[發明專利]調整干涉型光譜成像儀空間方向與光譜方向正交性的方法有效
| 申請號： | 202010104904.4 | 申請日： | 2020-02-20 |
| 公開（公告）號： | CN111272279B | 公開（公告）日： | 2021-06-22 |
| 發明（設計）人： | 劉歡;武俊強;李思遠;趙強;白清蘭;鄒純博;李立波;衛翠玉 | 申請（專利權）人： | 中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G01J3/28 | 分類號： | G01J3/28;G01J3/45 |
| 代理公司： | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人： | 王凱敏 |
| 地址： | 710119 陜西省西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 調整 干涉 光譜 成像 空間 方向 正交 方法 | ||
【權利要求書】：
1.調整干涉型光譜成像儀空間方向與光譜方向正交性的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：以大地水平為基準，將光譜成像儀系統主截面調至水平；
步驟2：在光譜成像儀系統中的一次像面(6)處設置垂直于大地的靶標(5)；
3)用折轉反射鏡(4)代替光譜成像儀系統中的干涉儀(2)，并調整折轉反射鏡(4)的位置使其與所述基準垂直，使得靶標(5)能夠準確成像在探測器(7)的靶面上；
4)調整探測器(7)的方位，使靶標(5)的像與探測器(7)的行平行；
5)將折轉反射鏡(4)移除，然后將干涉儀(2)放置在光譜成像儀系統中，調整干涉儀(2)使干涉條紋與靶標(5)的像平行；
步驟2中所述的靶標(5)為鉛垂線。
2.根據權利要求1所述的調整干涉型光譜成像儀空間方向與光譜方向正交性的方法，其特征在于：所述鉛垂線的直徑應大于等于3倍的探測器像元，且小于等于5倍的探測器像元。
3.根據權利要求2所述的調整干涉型光譜成像儀空間方向與光譜方向正交性的方法，其特征在于：在裝調過程中，為所述鉛垂線增加適當阻尼。
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