[發明專利]一種大面陣中波紅外雙視場光學系統

有效

• 申請號: 202010104569.8
• 申請日: 2020-02-20
• 公開（公告）號: CN111290103B
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 孫浩;高益;于興;鄧巖
• 申請（專利權）人: 北京華北萊茵光電技術有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18;G02B13/14;G02B15/15
• 代理公司: 北京天江律師事務所 11537
• 代理人: 任崇

1.一種大面陣中波紅外雙視場光學系統，其特征在于：包括物鏡組、中繼組，物鏡組同軸設置于中繼組的前方；所述物鏡組包括第一透鏡(1)、第二透鏡(2)、第三透鏡(3)、第四透鏡(4)、第五透鏡(5)且各透鏡從前到后依序同軸設置，物鏡組用于實現聚焦和焦距切換功能，第二透鏡(2)沿光軸移動實現60mm/180mm焦距的變換；所述中繼組包括第六透鏡(6)、第七透鏡(7)、第八透鏡(8)、第九透鏡(9)且各透鏡從前到后依序同軸設置；所述中繼組的后方同軸依序設置有探測器窗口(10)、探測器濾光片(11)，探測器濾光片(11)用作光學系統光闌，探測器焦平面陣列(12)位于探測器濾光片(11)的后方且與其同軸；

所述第二透鏡(2)的后端表面、第四透鏡(4)的前端表面、第八透鏡(8)的前端表面均為二元面；

所述第五透鏡(5)的后端表面、第六透鏡(6)的前端表面均為非球面。

2.根據權利要求1所述的大面陣中波紅外雙視場光學系統，其特征在于：所述第一透鏡(1)、第三透鏡(3)、第七透鏡(7)、第九透鏡(9)的材料均為硅。

3.根據權利要求2所述的大面陣中波紅外雙視場光學系統，其特征在于：所述第二透鏡(2)、第四透鏡(4)、第五透鏡(5)、第六透鏡(6)、第八透鏡(8)的材料均為鍺。

4.根據權利要求3所述的大面陣中波紅外雙視場光學系統，其特征在于：所述第一透鏡(1)的前后端表面、第二透鏡(2)的前端表面、第三透鏡(3)的前后端表面、第四透鏡(4)的后端表面、第五透鏡(5)的前端表面、第六透鏡(6)的后端表面、第七透鏡(7)的前后端表面、第八透鏡(8)的后端表面、第九透鏡(9)的前后端表面均為球面。