[發(fā)明專利]一種水質(zhì)測量儀表防護(hù)裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010103165.7
• 申請日: 2020-02-19
• 公開（公告）號: CN111257530A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州希瑪諾光電技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G01N33/18
• 分類號: G01N33/18;G01F23/00;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種水質(zhì)測量儀表防護(hù)裝置，其包括水位自適應(yīng)保護(hù)裝置、水下旋轉(zhuǎn)保潔裝置和測量探頭維護(hù)裝置，其特征在于：水位自適應(yīng)保護(hù)裝置、水下旋轉(zhuǎn)保潔裝置和測量探頭維護(hù)裝置組裝于伸縮支架上，通過螺旋電纜進(jìn)行電力和信號連接，可靈活適應(yīng)現(xiàn)場安裝環(huán)境，采用一體化的安裝方式，降低狹小空間施工難度，且所有水下裝置采用獨立全密封防水結(jié)構(gòu)，組裝構(gòu)成的水質(zhì)測量儀表防護(hù)裝置可實現(xiàn)在城市地下管網(wǎng)等復(fù)雜水體條件下對水質(zhì)測量儀表的綜合防護(hù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水質(zhì)測量儀表防護(hù)裝置，其特征在于：所述的水位自適應(yīng)保護(hù)裝置包括浮塊、防擱淺裝置和獨立全密封防水結(jié)構(gòu)，在正常水位下通過浮塊保持測量儀表在水體中的適宜位置，防止淤泥遮擋；在水位過低時通過防擱淺裝置防止測量儀表陷入水體底部淤泥；在水位過高時通過所有水下裝置采用的獨立全密封防水結(jié)構(gòu)對測量儀表進(jìn)行防漫灌保護(hù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水質(zhì)測量儀表防護(hù)裝置，其特征在于：所述的水下旋轉(zhuǎn)保潔裝置包括旋轉(zhuǎn)保護(hù)罩、旋轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)，旋轉(zhuǎn)保護(hù)罩用于隔離水體雜物，隨水流方向繞安裝桿雙向360°旋轉(zhuǎn)，在水流作用力和重力影響下減少雜物掛壁堆積，保證內(nèi)部測量儀表的清潔；旋轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)用于控制旋轉(zhuǎn)保護(hù)罩狀態(tài)，使其采取被動式水流沖擊旋轉(zhuǎn)，或主動式電力驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水質(zhì)測量儀表防護(hù)裝置，其特征在于：所述的測量探頭維護(hù)裝置包括液位傳感器、維護(hù)控制系統(tǒng)、探頭清洗裝置，液位傳感器用于獲取當(dāng)前水位信息，為維護(hù)控制系統(tǒng)提供輸入，維護(hù)控制系統(tǒng)根據(jù)當(dāng)前水位信息或人工輸入，對探頭清洗裝置發(fā)送相應(yīng)操作命令，探頭清洗裝置用于根據(jù)操作命令對測量探頭進(jìn)行仿人工機(jī)械清洗或?qū)Ｓ靡罕Ｗo(hù)性清洗。