[發(fā)明專利]磁共振射頻線圈、磁共振裝置及磁共振射頻線圈解耦方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010102930.3 | 申請日： | 2020-02-19 |
| 公開（公告）號： | CN111208459B | 公開（公告）日： | 2022-09-27 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李勝 | 申請（專利權(quán)）人： | 武漢聯(lián)影生命科學儀器有限公司 |
| 主分類號： | G01R33/34 | 分類號： | G01R33/34;G01R33/341;G01R33/36 |
| 代理公司： | 北京華進京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606 | 代理人： | 李紅艷 |
| 地址： | 430206 湖北省武漢市江夏區(qū)東湖新*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磁共振 射頻 線圈 裝置 方法 | ||
1.一種磁共振射頻線圈，其特征在于，包括：
絕緣筒；
貼附于所述絕緣筒外表面的多個表面線圈，每個所述表面線圈串聯(lián)有兩個對稱設置的金屬導體；
相鄰的所述表面線圈交疊設置，次相鄰的所述表面線圈的所述金屬導體交疊設置，且交疊設置的所述金屬導體之間沿垂直于貼合面方向的距離可調(diào)節(jié)，其中，所述貼合面是指所述金屬導體投影于所述絕緣筒外表面形成的面；
相鄰的所述表面線圈交疊設置所形成的第一重疊區(qū)域與所述次相鄰的所述表面線圈的所述金屬導體交疊設置所形成的第二重疊區(qū)域之間不相交。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述金屬導體為弧形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述金屬導體的材料為銅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述表面線圈包括無磁性導線，以及多個電容，所述多個電容通過所述無磁性導線串聯(lián)，且所述金屬導體通過所述無磁性導線串聯(lián)于兩個電容之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述多個電容之間的位置關(guān)系，包括等間距設置、對稱設置、周期性變化的間距設置中的一種或多種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述金屬導體焊接于所述表面線圈的印制電路板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述絕緣筒為圓柱形結(jié)構(gòu)。
8.一種磁共振裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至7任一項所述的磁共振射頻線圈。
9.一種對如權(quán)利要求1至7任一項所述的磁共振射頻線圈進行磁共振射頻線圈解耦方法，其特征在于，包括：
調(diào)整相鄰的兩個所述表面線圈之間的位置，以改變相鄰的兩個所述表面線圈之間重疊面積，以實現(xiàn)對相鄰的兩個所述表面線圈之間的解耦；
調(diào)節(jié)交疊設置的兩個所述金屬導體之間沿垂直于所述貼合面方向的距離，以改變交疊設置的兩個所述金屬導體之間的重疊面積，實現(xiàn)次相鄰的兩個所述表面線圈之間的解耦。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁共振射頻線圈解耦方法，其特征在于，所述方法還包括：
調(diào)整交疊的兩個所述金屬導體的形狀，以改變交疊設置的兩個所述金屬導體之間的重疊面積，實現(xiàn)次相鄰的兩個所述表面線圈之間的解耦。
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