[發(fā)明專利]磁共振射頻線圈、磁共振裝置及磁共振射頻線圈解耦方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010102930.3
• 申請日: 2020-02-19
• 公開（公告）號: CN111208459B
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李勝
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢聯(lián)影生命科學(xué)儀器有限公司
• 主分類號: G01R33/34
• 分類號: G01R33/34;G01R33/341;G01R33/36
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 李紅艷

1.一種磁共振射頻線圈，其特征在于，包括：

絕緣筒；

貼附于所述絕緣筒外表面的多個表面線圈，每個所述表面線圈串聯(lián)有兩個對稱設(shè)置的金屬導(dǎo)體；

相鄰的所述表面線圈交疊設(shè)置，次相鄰的所述表面線圈的所述金屬導(dǎo)體交疊設(shè)置，且交疊設(shè)置的所述金屬導(dǎo)體之間沿垂直于貼合面方向的距離可調(diào)節(jié)，其中，所述貼合面是指所述金屬導(dǎo)體投影于所述絕緣筒外表面形成的面；

相鄰的所述表面線圈交疊設(shè)置所形成的第一重疊區(qū)域與所述次相鄰的所述表面線圈的所述金屬導(dǎo)體交疊設(shè)置所形成的第二重疊區(qū)域之間不相交。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述金屬導(dǎo)體為弧形。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述金屬導(dǎo)體的材料為銅。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述表面線圈包括無磁性導(dǎo)線，以及多個電容，所述多個電容通過所述無磁性導(dǎo)線串聯(lián)，且所述金屬導(dǎo)體通過所述無磁性導(dǎo)線串聯(lián)于兩個電容之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述多個電容之間的位置關(guān)系，包括等間距設(shè)置、對稱設(shè)置、周期性變化的間距設(shè)置中的一種或多種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述金屬導(dǎo)體焊接于所述表面線圈的印制電路板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振射頻線圈，其特征在于，所述絕緣筒為圓柱形結(jié)構(gòu)。

8.一種磁共振裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至7任一項所述的磁共振射頻線圈。

9.一種對如權(quán)利要求1至7任一項所述的磁共振射頻線圈進(jìn)行磁共振射頻線圈解耦方法，其特征在于，包括：

調(diào)整相鄰的兩個所述表面線圈之間的位置，以改變相鄰的兩個所述表面線圈之間重疊面積，以實現(xiàn)對相鄰的兩個所述表面線圈之間的解耦；

調(diào)節(jié)交疊設(shè)置的兩個所述金屬導(dǎo)體之間沿垂直于所述貼合面方向的距離，以改變交疊設(shè)置的兩個所述金屬導(dǎo)體之間的重疊面積，實現(xiàn)次相鄰的兩個所述表面線圈之間的解耦。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁共振射頻線圈解耦方法，其特征在于，所述方法還包括：

調(diào)整交疊的兩個所述金屬導(dǎo)體的形狀，以改變交疊設(shè)置的兩個所述金屬導(dǎo)體之間的重疊面積，實現(xiàn)次相鄰的兩個所述表面線圈之間的解耦。