[發明專利]一種電鍍銅鍍液及電鍍銅方法有效
| 申請號: | 202010101929.9 | 申請日: | 2020-02-19 |
| 公開(公告)號: | CN111155153B | 公開(公告)日: | 2021-06-08 |
| 發明(設計)人: | 鄧正平;田志斌;包志華;陳國琳 | 申請(專利權)人: | 廣州三孚新材料科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C25D3/38 | 分類號: | C25D3/38;C25D5/34 |
| 代理公司: | 廣州科沃園專利代理有限公司 44416 | 代理人: | 張帥;徐翔 |
| 地址: | 510663 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鍍銅 方法 | ||
1.一種電鍍銅鍍液,其特征在于,包括如下濃度的組分:五水硫酸銅210g/L、硫酸64g/L、氯離子59mg/L、光亮劑3.5mg/L、平整劑13.6mg/L、月桂酰精氨酸乙酯鹽酸鹽1.2g/L、余量為去離子水;
所述平整劑由丁炔二醇、健那綠、甲基綠、吡羅紅按質量比為3:2:5:1組成;所述光亮劑由苯二磺酸鈉、聚二硫二丙烷磺酸鈉、苯基二硫代丙烷磺酸鈉按質量比為2:1:3組成。
2.一種利用權利要求1所述的電鍍銅鍍液的電鍍銅方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、表面處理:將工件除油除銹,超聲清洗,烘干,酸洗,得到待鍍工件;
S2、配置電鍍銅鍍液:取配方量五水硫酸銅、硫酸、氯離子、光亮劑、平整劑、月桂酰精氨酸乙酯鹽酸鹽和去離子水,于200rpm的轉速下攪拌25min,混合均勻,配置成電鍍銅鍍液;
S3、預鍍:將步驟S1制得的待鍍工件進行無氰堿性鍍銅,得到預鍍銅層工件;
S4、電鍍:將步驟S2制得的電鍍銅鍍液置于鍍槽中,將步驟S3制得的預鍍銅層工件放入鍍槽中進行電鍍,電鍍溫度設置為20℃,電流密度為6A/dm2,電鍍時間為20min,制得電鍍后的工件;
S5、干燥:將步驟S4制得的電鍍后的工件用去離子水清洗兩次后干燥,即得。
3.根據權利要求2所述的電鍍銅方法,其特征在于,步驟S1中所述酸洗,采用體積分數為10%的硫酸,酸洗時間2min。
4.根據權利要求2所述的電鍍銅方法,其特征在于,步驟S3中所述無氰堿性鍍銅的鍍液為:SF-638Cu開缸劑350mL/L、SF-638E促進劑120mL/L、金屬銅6.3g/L、碳酸鉀45g、余量為去離子水;電鍍時陰極電流密度為1A/dm3;pH控制為9.8;陽極為無氧1號電解銅。
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