[發(fā)明專利]鍍膜方法及鍍膜件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010099554.7 | 申請日： | 2020-02-18 |
| 公開（公告）號： | CN111321583A | 公開（公告）日： | 2020-06-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 蘇建華;云洋 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳奧攔科技有限責(zé)任公司;利亞德光電股份有限公司 |
| 主分類號： | D06M10/02 | 分類號： | D06M10/02;C08J7/12;C23C14/12 |
| 代理公司： | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 劉欣 |
| 地址： | 518101 廣東省深圳市寶安*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鍍膜 方法 | ||
1.一種鍍膜方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S100、將基體(16)置于鍍膜室(10)內(nèi)，所述基體(16)由具有透氣孔(17)的透氣材料制成；
步驟S200、對所述鍍膜室(10)抽真空使壓強降低到15pa以下；
步驟S300、向所述鍍膜室(10)通入工藝氣體，并保持壓強為10pa～50pa；
步驟S400、在所述鍍膜室(10)內(nèi)施加射頻交流電，并保持一段時間；
步驟S500、關(guān)閉所述射頻交流電、停止通入所述工藝氣體，并對所述鍍膜室(10)抽真空使壓強降低至15pa以下；
步驟S600、向所述鍍膜室(10)通入空氣使壓強大于或等于1個大氣壓，取出表面形成有疏水層的所述基體(16)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，在步驟S200和步驟S300之間，還包括以下步驟：
步驟S210、將氧氣或氬氣通入所述鍍膜室(10)，并控制所述鍍膜室(10)內(nèi)的壓強為10pa～50pa，并在所述鍍膜室(10)內(nèi)施加射頻交流電，并保持一段時間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，在步驟S200和步驟S300之間，還包括以下步驟：
步驟S210、將氧氣和氬氣的混合氣體通入所述鍍膜室(10)，并控制所述鍍膜室(10)內(nèi)的壓強為10pa～50pa，并在所述鍍膜室(10)內(nèi)施加射頻交流電，并保持一段時間，所述氬氣的體積占比為10％-90％。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的鍍膜方法，其特征在于，在步驟S210與步驟S300之間，還包括以下步驟：
步驟S220、對所述鍍膜室(10)抽真空使壓強降低到15pa以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述工藝氣體為四氟甲烷、六氟丙烯、八氟環(huán)丁烷和對二甲苯中的一種或多種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述疏水層的厚度為10nm～100nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜方法，其特征在于，所述疏水層附著于所述基體(16)的整個表面。
8.一種鍍膜件，其特征在于，包括：
基體(16)，所述基體(16)為具有透氣孔的透氣材料制成；以及
疏水層，至少附著于所述基體(16)的一個表面，所述疏水層由四氟甲烷、六氟丙烯、八氟環(huán)丁烷和對二甲苯的一種或多種制成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜件，其特征在于，所述疏水層的厚度為10nm～100nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜件，其特征在于，所述基體(16)為口罩。
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