[發明專利]基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列

有效

• 申請號: 202010099533.5
• 申請日: 2020-02-18
• 公開（公告）號: CN111370853B
• 公開（公告）日: 2022-11-18
• 發明（設計）人: 耿軍平;劉二偉;金榮洪;王堃;梁仙靈
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q13/10;H01Q21/06
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

1.一種天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，所述天線單元包括：

第一開口縫隙(1)、第二開口縫隙(2)、第一饋電微帶線(3)、第二饋電微帶線(4)、介質(5)、金屬貼片(6)、介質片(7)和地板(8)；

所述掃描陣列由多個天線單元按直線排列組成線陣。

2.根據權利要求1所述的天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，所述天線單元為方向圖隨輸入端口相差變化的低剖面天線單元。

3.根據權利要求1所述的天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，所述天線單元尺寸長度小于半波長，第一開口縫隙(1)、第二開口縫隙(2)位于介質(5)上方，分布在天線單元兩側；

第一饋電微帶線(3)、第二饋電微帶線(4)分別位于第一開口縫隙(1)、第二開口縫隙(2)的下方，并與縫隙垂直。

4.根據權利要求1所述的天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，第一開口縫隙(1)、第二開口縫隙(2)分別由第一饋電微帶線(3)、第二饋電微帶線(4)進行饋電，且饋電相位可以任意設置。

5.根據權利要求1所述的天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，所述金屬貼片(6)、介質片(7)和地板(8)組成高阻抗表面單元；

所述高阻抗表面單元是平面周期性二維結構，在x方向和y方向以方格的形式呈周期性排列。

6.根據權利要求1所述的天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，掃描陣列由n個上述天線單元按按直線排列組成線陣，相鄰天線單元中心間距小于一個波長。

7.根據權利要求6所述的天線單元及其基于廣義方向圖乘積原理的大角度掃描陣列，其特征在于，所述由n個上述天線單元按按直線排列組成的線陣，主波束指向θ₀的方向圖就是單元波束指向θ₀的方向圖的元因子和波束指向θ₀的陣因子的乘積，即廣義方向圖乘積原理。