[發(fā)明專利]一種掩膜板及其制備方法和蒸鍍方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010099013.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111172497B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈闊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;馮建基 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜板 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供一種掩膜板及其制備方法和蒸鍍方法。該掩膜板包括主體部和支撐部,主體部設(shè)置于支撐部上,支撐部的用于蒸鍍的區(qū)域包括多個(gè)開(kāi)口區(qū),至少部分開(kāi)口區(qū)的至少部分邊緣處設(shè)置有磁力調(diào)節(jié)部,磁力調(diào)節(jié)部被配置為調(diào)節(jié)支撐部在相應(yīng)位置處的磁力吸附強(qiáng)度的大小。該掩膜板,通過(guò)設(shè)置磁力調(diào)節(jié)部,能夠調(diào)節(jié)支撐部在相應(yīng)位置處的磁力吸附強(qiáng)度的大小,使蒸鍍?cè)O(shè)備中磁板與支撐部上開(kāi)口區(qū)整個(gè)邊緣或局部邊緣之間的吸附磁力大大增強(qiáng),從而避免支撐部上開(kāi)口區(qū)的邊緣在蒸鍍時(shí)產(chǎn)生較大的下垂,進(jìn)而減少或避免主體部在支撐部的支撐作用下出現(xiàn)褶皺下垂和局部的形變,提高蒸鍍良率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種掩膜板及其制備方法和蒸鍍方法。
背景技術(shù)
OLED(Organic Light Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示屏幕,因其具有自發(fā)光、高對(duì)比度、響應(yīng)時(shí)間快、低功耗等優(yōu)點(diǎn),被認(rèn)為是最有發(fā)展?jié)摿Φ娘@示器件,已經(jīng)成為顯示技術(shù)領(lǐng)域的主流發(fā)展方向。
如今OLED屏幕市場(chǎng)前景廣闊,各大廠商都在積極研發(fā)和生產(chǎn)各種OLED屏幕,以應(yīng)對(duì)市場(chǎng)需求。目前,AMOLED顯示屏發(fā)光材料主要使用精細(xì)金屬掩模板蒸鍍到顯示基板上。蒸鍍OLED屏幕所用的掩膜板由用于定義RGB(紅綠藍(lán))子像素的精密金屬掩膜板(Fine MetalMask,F(xiàn)MM)和用于遮擋非蒸鍍區(qū)和支撐FMM的支撐掩模板(F-Mask)組成。蒸鍍用的FMM和F-Mask因自身重力會(huì)下垂,雖然在蒸鍍時(shí),蒸鍍?cè)O(shè)備內(nèi)存在磁場(chǎng)可以吸附Mask,使其與蒸鍍基板大面積貼合,但是對(duì)于F-Mask開(kāi)口邊緣(通常對(duì)應(yīng)制備過(guò)程中母板上的各子板的邊緣)或者目前比較流行的F-Mask異形開(kāi)口處(對(duì)應(yīng)母板上的各子板的邊緣為異形,即不規(guī)則形狀的子板),因異形開(kāi)口在均勻分布磁場(chǎng)強(qiáng)度下,F(xiàn)-Mask的局部翹曲或下凹很難改善,因此FMM也會(huì)出現(xiàn)局部翹曲和褶皺,從而存在蒸鍍偏差混色的風(fēng)險(xiǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)蒸鍍時(shí)F-Mask開(kāi)口邊緣或異形開(kāi)口處在均勻分布的磁場(chǎng)強(qiáng)度下其局部翹曲或下凹所導(dǎo)致的FMM局部翹曲和褶皺,以致出現(xiàn)蒸鍍偏差混色的問(wèn)題,提供一種掩膜板及其制備方法和蒸鍍方法。該掩膜板,能使蒸鍍?cè)O(shè)備中磁板與支撐部上開(kāi)口區(qū)整個(gè)邊緣或局部邊緣之間的吸附磁力大大增強(qiáng),從而避免支撐部上開(kāi)口區(qū)的邊緣在蒸鍍時(shí)產(chǎn)生較大的下垂,進(jìn)而減少或避免主體部在支撐部的支撐作用下出現(xiàn)褶皺下垂和局部的形變,減小或避免出現(xiàn)蒸鍍膜層混色不良,提高蒸鍍良率。
本發(fā)明提供一種掩膜板,包括主體部和支撐部,所述主體部設(shè)置于所述支撐部上,所述支撐部的用于蒸鍍的區(qū)域包括多個(gè)開(kāi)口區(qū),至少部分所述開(kāi)口區(qū)的至少部分邊緣處設(shè)置有磁力調(diào)節(jié)部,所述磁力調(diào)節(jié)部被配置為調(diào)節(jié)所述支撐部在相應(yīng)位置處的磁力吸附強(qiáng)度的大小。
可選地,所述磁力調(diào)節(jié)部設(shè)置于所述支撐部的背離所述主體部的一側(cè)。
可選地,所述磁力調(diào)節(jié)部為磁力吸附強(qiáng)度大于所述支撐部的磁力吸附強(qiáng)度的導(dǎo)磁結(jié)構(gòu)。
可選地,所述磁力調(diào)節(jié)部為導(dǎo)電結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)能通入不同大小的電流,以使其具有不同大小的磁力吸附強(qiáng)度;
所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)與所述支撐部之間還設(shè)置有絕緣層。
可選地,所述導(dǎo)磁結(jié)構(gòu)的材料包括鐵鈷軟磁合金或鐵鎳鈷合金。
可選地,所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)具有的磁力吸附強(qiáng)度大小與其通入的電流大小成正比。
可選地,所述支撐部的各所述開(kāi)口區(qū)具有相同的規(guī)則矩形邊緣,
所述支撐部的各所述開(kāi)口區(qū)的邊緣都設(shè)置有所述磁力調(diào)節(jié)部。
可選地,所述支撐部的各所述開(kāi)口區(qū)具有至少一段大小形狀相同的不規(guī)則邊緣,各所述開(kāi)口區(qū)的不規(guī)則邊緣處設(shè)置有磁力吸附強(qiáng)度相同的所述磁力調(diào)節(jié)部。
可選地,所述支撐部的各所述開(kāi)口區(qū)具有大小形狀相同的不規(guī)則矩形邊緣,各所述開(kāi)口區(qū)的四個(gè)角的邊緣線為曲率相同的弧線,
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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