[發明專利]無立柱的基坑支護結構及其施工方法在審
| 申請號： | 202010097345.9 | 申請日： | 2020-02-17 |
| 公開（公告）號： | CN111173000A | 公開（公告）日： | 2020-05-19 |
| 發明（設計）人： | 韓磊;孫旻;冉岸綠;方興杰 | 申請（專利權）人： | 中國建筑第八工程局有限公司 |
| 主分類號： | E02D17/04 | 分類號： | E02D17/04 |
| 代理公司： | 上海唯源專利代理有限公司 31229 | 代理人： | 宋小光 |
| 地址： | 200122 上海市浦東新區中國*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 立柱 基坑 支護 結構 及其 施工 方法 | ||
1.一種無立柱的基坑支護結構，其特征在于，包括：
設置于待開挖基坑的區域周圍的圍護結構；
沿所述基坑的開挖深度依次設置的至少兩道水平支撐，所述水平支撐水平地支撐于所述圍護結構之間，且靠近所述基坑底部的水平支撐位于待施工的地下結構的上方；
間隔設置且豎直連接于相鄰兩道所述水平支撐之間的豎梁；以及
傾斜地連接于相鄰的兩道所述水平支撐之間且與所述豎梁固定連接的若干斜撐。
2.如權利要求1所述的無立柱的基坑支護結構，其特征在于，所述斜撐包括若干首尾相連的第一斜梁，若干所述第一斜梁拼合呈波浪形。
3.如權利要求2所述的無立柱的基坑支護結構，其特征在于，所述斜撐還包括與所述第一斜梁交錯設置的第二斜梁，所述第二斜梁和所述第一斜梁交錯呈X狀并支撐于相鄰的兩道所述水平支撐之間。
4.如權利要求1所述的無立柱的基坑支護結構，其特征在于，每一道所述水平支撐包括位于同一水平面且沿所述圍護結構間隔設置的若干橫梁以及間隔設置且連接于相鄰兩根所述橫梁之間的連接梁，所述連接梁對應所述豎梁設置并與所述豎梁固定連接。
5.如權利要求1所述的無立柱的基坑支護結構，其特征在于，所述圍護結構的頂部澆筑形成有冠梁；
相對的兩個所述冠梁之間澆筑形成所述水平支撐。
6.如權利要求1所述的無立柱的基坑支護結構，其特征在于，所述圍護結構的內壁澆筑形成有至少一道腰梁；
相對的所述腰梁之間澆筑形成所述水平支撐。
7.一種如權利要求1所述的無立柱的基坑支護結構的施工方法，其特征在于，包括如下步驟：
于待開挖基坑的區域周圍施工圍護結構；
開挖所述待開挖基坑的區域，并沿開挖深度依次于所述圍護結構的內壁間隔設置至少兩道水平支撐，且靠近所述基坑底部的所述水平支撐位于待施工的地下結構的上方；
于相鄰兩道所述水平支撐之間間隔設置若干豎梁；
于相鄰兩道所述水平支撐之間設置傾斜的斜撐，并將所述斜撐與所述豎梁對應連接。
8.如權利要求7所述的無立柱的基坑支護結構的施工方法，其特征在于，每一道所述水平支撐包括位于同一水平面且沿所述圍護結構間隔設置的若干橫梁；
對應所述豎梁于相鄰兩根所述橫梁之間設置連接梁，并將所述連接梁對應與所述豎梁固定連接。
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