[發(fā)明專利]一種基于范德華異質(zhì)結(jié)的非易失光存儲(chǔ)單元及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010096346.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111276561B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭波;周思宇;王雅倩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L31/108 | 分類號(hào): | H01L31/108;H01L31/02;H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00;G11C13/04 |
| 代理公司: | 電子科技大學(xué)專利中心 51203 | 代理人: | 閆樹(shù)平 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 范德華異質(zhì)結(jié) 非易失光 存儲(chǔ) 單元 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光存儲(chǔ)器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于范德華異質(zhì)結(jié)的非易失光存儲(chǔ)單元及其制備方法。本發(fā)明器件包括兩個(gè)電極、兩層石墨烯層以及量子點(diǎn)層;量子點(diǎn)層設(shè)置于兩層石墨烯層之間,構(gòu)成石墨烯/量子點(diǎn)/石墨烯的三層垂直異質(zhì)結(jié)構(gòu),層與層之間的界面態(tài)俘獲電荷載流子使得整個(gè)非易失光存儲(chǔ)單元具有非易失光存儲(chǔ)的特性;兩電極分別制作在兩層石墨烯上。本發(fā)明基于層間界面態(tài)俘獲電子的基本原理實(shí)現(xiàn)了單元非易失多級(jí)光存儲(chǔ)的特性。該非易失光存儲(chǔ)單元結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,穩(wěn)定性強(qiáng),能耗低,能與目前的CMOS工藝兼容,且具有多級(jí)存儲(chǔ)的特性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光存儲(chǔ)器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于范德華異質(zhì)結(jié)的非易失光存儲(chǔ)單元及其制備方法。
背景技術(shù)
在大數(shù)據(jù)和人工智能時(shí)代,對(duì)高性能的處理,存儲(chǔ)和通信設(shè)備的需求變得更加迫切。但是傳統(tǒng)的存儲(chǔ)器由于尺寸、工藝以及生產(chǎn)成本等限制,正面臨嚴(yán)峻的性能瓶頸與技術(shù)挑戰(zhàn)[1]。光電存儲(chǔ)器件引入光作為新的參量,可以實(shí)現(xiàn)光和電共同控制電荷儲(chǔ)存,極大的豐富了存儲(chǔ)器件的應(yīng)用。在傳統(tǒng)的馮·諾依曼計(jì)算體系結(jié)構(gòu)中,分開(kāi)的存儲(chǔ)和處理單元會(huì)導(dǎo)致更多的能耗和較慢的數(shù)據(jù)傳輸速度。光電存儲(chǔ)器可以實(shí)現(xiàn)直接在一個(gè)單元中感測(cè)、存儲(chǔ)和處理光學(xué)信息,是打破馮·諾依曼系統(tǒng)的重要手段,有望突破現(xiàn)有的技術(shù)瓶頸,提升存儲(chǔ)器件的性能[2,3]。
在用于光電存儲(chǔ)器件的材料系統(tǒng)中,二維材料具有豐富的物理與化學(xué)性能,如強(qiáng)的光與物質(zhì)相互作用、大的表面體積比、柵極可調(diào)性和柔韌性,在柔性光電子器件和非易失存儲(chǔ)器件中具有極大的應(yīng)用前景[4,5,6]。因此,利用二維材料來(lái)設(shè)計(jì)并制作光電存儲(chǔ)器件具有重大的意義。
[1]Waldrop,M.M.,The?chips?are?down?for?Moore’s?law.Nature?2016,530(7589),144-147.
[2]Zhou,F.;Chen,J.;Tao,X.;Wang,X.;Chai,Y.,2D?Materials?BasedOptoelectronic?Memory:?Convergence?of?ElectronicMemory?and?OpticalSensor.Research(Wash?DC)2019,2019,9490413.
[3]Zhou,F.;Zhou,Z.;Chen,J.;Choy,T.H.;Wang,J.;Zhang,N.;Lin,Z.;Yu,S.;Kang,J.;Wong,?H.P.;Chai,Y.,Optoelectronic?resistive?random?access?memory?forneuromorphic?vision?sensors.?Nat?Nanotechnol?2019,14(8),776-782.
[4]Britnell?L,Ribeiro?R?M,Eckmann?A,et?al.Strong?light-matterinteractions?in?heterostructures?of?atomically?thin?films.Science,2013,340(6138):1311-1314.
[5]Minh,Dao,Tran,et?al.Role?of?Hole?Trap?Sites?in?MoS2?forInconsistency?inOptical?and?Electrical?Phenomena.ACS?Applied?MaterialsInterfaces,2018,10(12):10580-10586.
[6]Wang?X,Xie?W,Xu?J?B.Graphene?based?non-volatile?memorydevices.Advanced?Materials,?2014,26(31):5496-5503.
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述存在問(wèn)題或不足,本發(fā)明提供了一種基于范德華異質(zhì)結(jié)的非易失光存儲(chǔ)單元及其制備方法,本發(fā)明結(jié)合兩種低維材料的優(yōu)勢(shì),在性能上實(shí)現(xiàn)了存儲(chǔ)器的低功耗和多級(jí)存儲(chǔ)的功能。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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