[發(fā)明專利]一種高性能碳化硼研磨介質(zhì)、制備方法及其應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010095777.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111348916A | 公開(公告)日: | 2020-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李欣;楊建紅;喬佳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C04B35/563 | 分類號(hào): | C04B35/563;C04B35/622;C04B35/64;C09K3/14;B02C23/00;C04B35/626 |
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| 地址: | 212013 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 性能 碳化 研磨 介質(zhì) 制備 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)將B4C原料、碳系添加劑、結(jié)合劑進(jìn)行配料,并以去離子水為介質(zhì)進(jìn)行濕磨混料至均勻;
(2)將混合均勻的粉體取出并干燥,然后過篩造球形成粒徑20~200目的B4C微粒;
(3)將B4C微粒置于特制模具中壓制成類橢球形的素坯;
(4)將素坯于真空條件下進(jìn)行梯度升溫多段無壓燒結(jié),隨爐冷卻至室溫得到類橢球形的初級(jí)研磨介質(zhì);
(5)將類橢球形的初級(jí)研磨介質(zhì)置于離心式循環(huán)整形機(jī)整形,即可得到高性能B4C研磨介質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的B4C原料的質(zhì)量要求如下:總B>76.3%,總C>21.8%,O%≤1.8%,F(xiàn)e0.2%,B:C(mole)=3.9~4.5,平均粒度為0.5~5μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述的碳系添加劑為聚氯乙烯、硬脂酸、聚碳硅烷、石墨烯、碳纖維、碳納米管、碳化細(xì)菌纖維素中的一種或者兩種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的結(jié)合劑為聚偏氟乙烯、聚氨酯、糊精中的一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述配料的質(zhì)量配比為:87~99.8%的B4C,0~10%的碳系添加劑,0.2~3%的結(jié)合劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的濕磨混料過程中球料重量比為(2~10):1,混料時(shí)間為5~15h;步驟(2)所述的烘干溫度為30~220℃,烘干時(shí)間為0.5~10h;步驟(3)中壓制素坯采用冷等靜壓法壓制,壓制壓力為30~300MPa,保壓時(shí)間為1~10min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(3)所述的特制模具為類橢球形,長(zhǎng)軸為6~24mm,長(zhǎng)徑比為:(2~6):1。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法,其特征在于,步驟(4)所述的梯度升溫多段無壓燒結(jié)流程為:先以10~20℃的升溫速率升溫至500~600℃,保溫10~100min,然后以3~15℃的升溫速率升溫至1500~1700℃,保溫30~180min,再以2~8℃升溫至1800~2000℃,保溫20~240min后隨爐冷卻。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的高性能碳化硼研磨介質(zhì)的制備方法制備的碳化硼研磨介質(zhì),其特征在于,所述研磨介質(zhì)為類橢球形,致密度>95%,硬度為22~28GPa。
10.權(quán)利要求9所述的碳化硼研磨介質(zhì)的用途,其特征在于,作為研磨介質(zhì)實(shí)現(xiàn)粉末的超細(xì)研磨,所述粉末包括D500.8μm的B4C亞微米超細(xì)陶瓷粉體。
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