[發(fā)明專利]波前測量設備及波前測量方法

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• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號: CN111256956A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設計）人: 談順毅
• 申請（專利權）人: 上海慧希電子科技有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海段和段律師事務所 31334
• 代理人: 李佳俊;郭國中

1.一種波前測量設備，其特征在于，包括：波前補償系統(tǒng)、控制系統(tǒng)以及檢測系統(tǒng)；

所述控制系統(tǒng)連接所述波前補償系統(tǒng)和所述檢測系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)控制所述波前補償系統(tǒng)補償輸入波前，使所述波前補償系統(tǒng)輸出可被所述檢測系統(tǒng)檢測的波前。

2.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述波前補償系統(tǒng)包含空間光調制器。

3.根據權利要求2所述的波前測量設備，其特征在于，所述空間光調制器使用純相位調制的硅基液晶或液晶器件和/或透射式的相位調制液晶器件。

4.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述波前測量設備還包括光源系統(tǒng)。

5.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述波前測量設備還包括光學耦合系統(tǒng)，設置于所述波前補償系統(tǒng)前端和/或所述波前補償系統(tǒng)和所述檢測系統(tǒng)之間。

6.根據權利要求5所述的波前測量設備，其特征在于，所述光學耦合系統(tǒng)包含濾波系統(tǒng)。

7.根據權利要求5所述的波前測量設備，其特征在于，所述光學耦合系統(tǒng)包含透鏡。

8.根據權利要求5所述的波前測量設備，其特征在于，所述光學耦合系統(tǒng)包含分光和/或合光器件，將光源發(fā)出的光束分為多個部分，一部分輸入待測器件后被補償系統(tǒng)補償，另一部分作為參考光與補償系統(tǒng)輸出的光波前合路后輸入檢測系統(tǒng)。

9.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述檢測系統(tǒng)包含CCD和/或CMOS。

10.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述檢測系統(tǒng)通過檢測干涉條紋的方式來實現(xiàn)檢測。

11.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述檢測系統(tǒng)采用微透鏡陣列+CCD/CMOS。

12.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)通過對光學系數、預設的相位分布、空間光調制器現(xiàn)有的相位分布、檢測系統(tǒng)得到的相位分布和光學系統(tǒng)參數的至少其中之一來計算輸出到空間光調制器的波前補償/相位分布。

13.根據權利要求12所述的波前測量設備，其特征在于，所述光學系數包括：zernike系數、seidel系數的至少其中之一。

14.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據檢測系統(tǒng)得到的光學參數和預設的閾值之間是否滿足設定的數學關系來判斷檢測結果。

15.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據檢測到的光學參數調整輸出到空間光調制器的波前補償/相位分布，直到得到符合測量要求的檢測結果。

16.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述檢測系統(tǒng)根據測得數據輸出光學系數和/或光波前的相位和/或強度分布。

17.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據檢測結果計算出待測波前/器件對應的光學參數，所述光學參數包括MTF、PSF、LSF、能量分布、像差數值的至少其中之一。

18.根據權利要求1所述的波前測量設備，其特征在于，所述檢測設備還包括上料系統(tǒng)，所述上料系統(tǒng)包含可移動的機械平臺、夾持設備、氣吸設備、視覺檢測設備的至少其中之一。

19.根據權利要求18所述的波前測量設備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據上料誤差控制波前補償系統(tǒng)做波前補償。

20.一種波前測量方法，其特征在于，采用權利要求1至19任一項所述的波前測量設備進行波前測量；

通過所述控制系統(tǒng)控制所述波前補償系統(tǒng)補償輸入波前，使所述波前補償系統(tǒng)輸出可被所述檢測系統(tǒng)檢測的波前。