[發(fā)明專利]聚束聲場處理方法、裝置和電子設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010095039.1 | 申請日: | 2020-02-18 |
| 公開(公告)號: | CN111342908B | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉小龍;崔琳;李寧;雷開卓;耿林;郭藝奪;李洪兵 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍空軍工程大學 |
| 主分類號: | H04B11/00 | 分類號: | H04B11/00;H04R3/00;H04S7/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 王立紅 |
| 地址: | 710038 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聲場 處理 方法 裝置 電子設備 | ||
1.一種聚束聲場處理方法,其特征在于,包括:
獲取聚束機構(gòu)的幾何數(shù)據(jù)和聲源產(chǎn)生的聲場數(shù)據(jù);
根據(jù)所述聚束機構(gòu)的幾何數(shù)據(jù)和聲波的傳播特性信息,對所述聲場數(shù)據(jù)的傳播路徑進行劃分,包括:
獲取于所述聲源處的反射第一焦點信息、經(jīng)耦合反射后的反射第二焦點信息;
根據(jù)所述反射第一焦點信息和所述反射第二焦點信息,將所述聲場數(shù)據(jù)的傳播路徑劃分為近聲源區(qū)、聚束區(qū)和聚束后區(qū);
根據(jù)所述傳播路徑的劃分結(jié)果,計算所述聲場數(shù)據(jù)的聲場分布信息,生成非線性聲場模型,包括:
獲取所述聲場數(shù)據(jù)的傳播介質(zhì)參數(shù);
根據(jù)所述傳播介質(zhì)參數(shù),解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述近聲源區(qū)的聲場分布信息,生成近聲源區(qū)非線性聲場模型;
獲取所述聲源的反射罩開口端面處的脈沖波參數(shù)信息和所述反射罩引起的聲程差,并獲取所述聲場數(shù)據(jù)的傳播介質(zhì)參數(shù);
根據(jù)所述脈沖波參數(shù)信息和所述聲程差,解析所述反射罩產(chǎn)生的二次聲場信息;
根據(jù)所述二次聲場信息和所述傳播介質(zhì)參數(shù),解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述聚束區(qū)的聲場分布信息,生成聚束區(qū)非線性聲場模型。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述傳播路徑的劃分結(jié)果,計算所述聲場數(shù)據(jù)的聲場分布信息,生成非線性聲場模型,包括:
獲取所述聲源的傳播介質(zhì)參數(shù);
根據(jù)所述傳播介質(zhì)參數(shù),解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述近聲源區(qū)和所述聚束區(qū)的介質(zhì)分布信息;
根據(jù)所述介質(zhì)分布信息,生成計算區(qū)域;
根據(jù)所述計算區(qū)域,生成聲場分布圖;
根據(jù)所述聲場分布圖,解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述近聲源區(qū)和所述聚束區(qū)的聲場分布信息,生成近聲源-聚束區(qū)非線性聲場模型。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述傳播路徑的劃分結(jié)果,計算所述聲場數(shù)據(jù)的聲場分布信息,生成非線性聲場模型,包括:
獲取所述聲場數(shù)據(jù)的傳播介質(zhì)的聲信道特性信息;
根據(jù)所述聲信道特性信息和溫度梯度分布計算模型,生成所述聲場數(shù)據(jù)在所述聚束后區(qū)的傳播衰減分布信息;
根據(jù)所述傳播衰減分布信息和所述聲場數(shù)據(jù)在所述聚束區(qū)的聲場分布信息,解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述聚束后區(qū)的聲場分布信息,生成聚束后區(qū)非線性聲場模型。
4.一種聚束聲場處理裝置,其特征在于,包括:
數(shù)據(jù)獲取模塊,用于獲取聚束機構(gòu)的幾何數(shù)據(jù)和聲源產(chǎn)生的聲場數(shù)據(jù);
區(qū)域劃分模塊,用于根據(jù)所述聚束機構(gòu)的幾何數(shù)據(jù)和聲波的傳播特性信息,對所述聲場數(shù)據(jù)的傳播路徑進行劃分,包括:
獲取于所述聲源處的反射第一焦點信息、經(jīng)耦合反射后的反射第二焦點信息;
根據(jù)所述反射第一焦點信息和所述反射第二焦點信息,將所述聲場數(shù)據(jù)的傳播路徑劃分為近聲源區(qū)、聚束區(qū)和聚束后區(qū);
數(shù)據(jù)計算模塊,用于根據(jù)所述傳播路徑的劃分結(jié)果,計算所述聲場數(shù)據(jù)的聲場分布信息,生成非線性聲場模型;
用于獲取所述聲場數(shù)據(jù)的傳播介質(zhì)參數(shù);
根據(jù)所述傳播介質(zhì)參數(shù),解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述近聲源區(qū)的聲場分布信息,生成近聲源區(qū)非線性聲場模型;
用于獲取所述聲源的反射罩開口端面處的脈沖波參數(shù)信息和所述反射罩引起的聲程差,并獲取所述聲場數(shù)據(jù)的傳播介質(zhì)參數(shù);
根據(jù)所述脈沖波參數(shù)信息和所述聲程差,解析所述反射罩產(chǎn)生的二次聲場信息;
根據(jù)所述二次聲場信息和所述傳播介質(zhì)參數(shù),解析所述聲場數(shù)據(jù)在所述聚束區(qū)的聲場分布信息,生成聚束區(qū)非線性聲場模型。
5.一種電子設備,其特征在于,包括:
存儲器,用于存儲計算機程序;
處理器,用于執(zhí)行如權利要求1-3任一項所述的方法。
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