[發明專利]一種OLED掩膜版清洗劑及其清洗工藝

有效

• 申請號: 202010093828.1
• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號: CN111172550B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 劉小勇;田博;顏如彩
• 申請（專利權）人: 福建省佑達環保材料有限公司
• 主分類號: C23G5/032
• 分類號: C23G5/032;C23G5/036
• 代理公司: 福州元創專利商標代理有限公司 35100
• 代理人: 修斯文;蔡學俊

1.一種OLED掩膜版用的清洗劑，其特征在于：以質量百分含量計，其組成如下：

醇醚類溶劑 20%~50%；

極性非質子溶劑 20%~50%；

含氟的非離子表面活性劑 1%~10%；

去離子水 10%~30%；

總質量分數之和為100%；

所述含氟的非離子表面活性劑，其結構式如式Ⅰ所示；

式Ⅰ

n為8~14之間的自然數；

所述醇醚類溶劑是選自由以下化合物組成的組中的一種：二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚，乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚；所述的極性非質子溶劑選自二氧六環Diox、四氫糠醇THFA、N-甲基吡咯烷酮NMP、單甲基甲酰胺NMF、二甲基甲酰胺DMF、二甲基咪唑啉酮DMI中的任一種或任兩種。

2.根據權利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗劑，其特征在于：具體地，n為10或12。

3.根據權利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗劑，其特征在于：所述醇醚類溶劑為丙二醇甲醚或二乙二醇丁醚。

4.根據權利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗劑，其特征在于：所述的極性非質子溶劑選自四氫糠醇和二甲基咪唑啉酮中的一種或兩種。

5.根據權利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗劑，其特征在于：所述去離子水在25℃時其電阻率不低于18MΩ。

6.一種如權利要求1~5任一項所述OLED掩膜版用的清洗劑的清洗工藝，其特征在于：包括以下步驟

a、清洗劑一次清洗：將FMM固定在清洗架上，放入添加清洗劑的超聲波清洗機中，加熱至50~60℃，超聲頻率60KHz，浸泡清洗10分鐘；

b、清洗劑二次清洗：將固定在清洗架上的FMM，放入第二個添加清洗劑的超聲清洗槽中，同樣加熱至50~60℃，超聲頻率60KHz，浸泡清洗10分鐘；

c、去離子水一次清洗：將固定在清洗架上的FMM，放入第三個添加去離子水的超聲清洗槽中，加熱至35~45℃，超聲頻率60KHz，浸泡清洗5分鐘；

d、去離子水二次清洗：將固定在清洗架上的FMM，放入第四個添加去離子水的超聲清洗槽中，加熱至35~45℃，超聲頻率60KHz，浸泡清洗5分鐘；

e、烘干：用高壓潔凈氮氣吹干后，放入氮氣保護烘箱中烘烤。

7.根據權利要求6所述的清洗工藝，其特征在于：所述步驟e的烘干具體為：70℃烘烤30分鐘。